(Descatalogado) ST0926 Cátodos para sputtering de carbonitruro de titanio, TiCN

Descripción del cátodo de carbonitruro de titanio para sputtering

El cátodo para sputtering de carbonitruro de titanio, TiCN, está diseñado para aplicaciones de revestimiento de alto rendimiento. Fabricado con un enfoque en la precisión y pureza, este material para cátodos está optimizado para procesos de sputtering, asegurando una deposición uniforme y una excelente adhesión de películas finas. Sus robustas propiedades térmicas y formas personalizables lo hacen ideal para la fabricación de semiconductores, recubrimientos ópticos y aplicaciones aeroespaciales. Con una pureza de ≥99%, este cátodo está diseñado para cumplir los requisitos más estrictos de la industria al tiempo que ofrece un rendimiento excepcional.

Aplicaciones de los cátodos de carbonitruro de titanio para sputtering

- Deposición de películas finas: Ideal para crear recubrimientos uniformes y duraderos en la fabricación de semiconductores y microelectrónica.
- Recubrimientos ópticos: Utilizado en la producción de revestimientos antirreflectantes y de alta reflectividad para dispositivos ópticos.
- Aeroespacial y automoción: Adecuado para aplicaciones de alta temperatura que requieren una sólida estabilidad térmica y resistencia a la corrosión.
- Investigación y desarrollo: Proporciona un rendimiento constante para uso experimental en estudios de materiales avanzados.

Empaquetadura de cátodos de carbonitruro de titanio para sputtering

Nuestros cátodos de carbonitruro de titanio para sputtering se manipulan y embalan cuidadosamente para mantener su alta pureza y rendimiento. Las opciones incluyen el envasado al vacío para una protección óptima y soluciones de envasado personalizadas adaptadas a los requisitos específicos del cliente.

Preguntas más frecuentes

P: ¿En qué aplicaciones se utiliza el cátodo para sputtering de carbonitruro de titanio?
R: Se utiliza principalmente en la deposición de películas finas, fabricación de semiconductores, revestimientos ópticos y aplicaciones aeroespaciales.

P: ¿Cómo se garantiza una pureza del material ≥99%?
R: Las avanzadas técnicas de fabricación junto con las rigurosas medidas de control de calidad garantizan que nuestros cátodos de TiCN cumplan los más altos estándares de pureza.

P: ¿Qué formas hay disponibles para el cátodo de TiCN para sputtering?
R: El cátodo está disponible en forma de disco estándar o puede fabricarse a medida para adaptarse a los requisitos específicos de la aplicación.

P: ¿Por qué es importante un punto de fusión >350°C para este producto?
R: Un punto de fusión elevado garantiza que el material del cátodo pueda soportar las condiciones de alta energía de los procesos de sputtering sin degradarse.

P: ¿Qué ventajas ofrece el enlace de indio en el cátodo para sputtering de TiCN?
R: El enlace de indio ofrece una conducción eléctrica excelente y una gestión térmica eficaz, que son fundamentales para las aplicaciones de sputtering de alta precisión.