ST0886 Cátodos para sputtering de telururo de antimonio y germanio, GST

Cátodos para sputtering de telururo de antimonio y germanio, GST Descripción

El cátodo para sputtering de telururo de antimonio y germanio, GST está fabricado con precisión para proporcionar un excelente rendimiento en aplicaciones de sputtering y deposición de películas finas. Utilizando Ge₂Sb₂Te₅ de alto grado con ≥99% de pureza, este cátodo para sputtering está disponible en forma de disco o formas personalizadas para adaptarse a diversas necesidades industriales. Su composición robusta y densidad controlada lo hacen ideal para aplicaciones en dispositivos semiconductores de memoria y tecnologías de cambio de fase. Diseñado por Stanford Advanced Materials, este producto demuestra una fiabilidad y consistencia superiores en condiciones de procesamiento exigentes.

Cátodos para sputtering de telururo de antimonio y germanio, aplicaciones GST

- Dispositivos semiconductores: Utilizado en la fabricación de elementos de memoria como la memoria de acceso aleatorio por cambio de fase (PCRAM) y otros dispositivos de memoria no volátil.
- Deposición de películas finas: Ideal para procesos de sputtering para depositar películas finas de alta calidad en aplicaciones electrónicas y ópticas.
- Nanofabricación: Adecuada para investigación y desarrollo avanzados en nanotecnología y sistemas microelectromecánicos (MEMS).
- Investigación y desarrollo: Empleado en estudios de ciencia de materiales e innovación para componentes electrónicos de próxima generación.

Cátodos para sputtering de telururo de antimonio y germanio, embalaje GST

Los productos se embalan meticulosamente para mantener la integridad y el rendimiento del material del cátodo durante el transporte y el almacenamiento.
- Opciones de embalaje personalizadas disponibles bajo pedido para garantizar una protección óptima de los componentes de precisión.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Cuál es la composición química del cátodo para sputtering de GST?
R: La composición es Ge₂Sb₂Te₅, lo que garantiza una alta pureza y un rendimiento a medida para aplicaciones avanzadas de sputtering.

P: ¿Qué tipos de formas hay disponibles para este cátodo para sputtering?
R: El cátodo está disponible en forma de disco estándar o puede fabricarse a medida según requisitos específicos.

P: ¿Cuáles son las principales aplicaciones del cátodo para sputtering GST?
R: Se utiliza principalmente en la fabricación de dispositivos semiconductores, la deposición de películas finas, la nanofabricación y diversas aplicaciones de I+D.

P: ¿Cómo afecta el tipo de unión (indio) al rendimiento del cátodo para sputtering?
R: La unión de indio garantiza un excelente contacto térmico y eléctrico durante los procesos de sputtering, lo cual es fundamental para la deposición precisa de películas finas.

P: ¿Es el punto de fusión (~600°C) un factor limitante para aplicaciones específicas?
R: El punto de fusión de ~600 °C es típico de este material y resulta adecuado para la mayoría de los procesos de sputtering y deposición utilizados en las industrias de semiconductores y nanofabricación.