ST0442 Blanco para sputtering de manganato de lantano y cobre (La2CuMnO6)

Cátodos para sputtering de manganato de lantano y cobre (La2CuMnO6) Descripción

El cátodo para sputtering de manganato de lantano y cobre (La2CuMnO6) está diseñado para procesos de sputtering de precisión, garantizando un rendimiento superior en la deposición de películas finas. Con un alto nivel de pureza de ≥99% y opciones para diseños a medida, este cátodo cumple los exigentes requisitos de las aplicaciones electrónicas, energéticas y de sensores avanzados. La composición única y la unión con el indio y el elastómero proporcionan estabilidad durante el sputtering, lo que lo convierte en una opción ideal para la investigación y la producción industrial.

Aplicaciones del cátodo para sputtering de manganato de lantano y cobre (La2CuMnO6)

- Deposición de películas finas: Ideal para fabricar películas finas uniformes y de alta calidad en microelectrónica y fotovoltaica.
- Fabricación de semiconductores: Garantiza una deposición precisa para circuitos integrados y componentes de sensores.
- Tecnologías de revestimiento: Perfecta para crear revestimientos conductores y resistentes al desgaste sobre diversos sustratos.
- Investigación y desarrollo: Admite configuraciones experimentales en ciencia de materiales avanzada y física de la materia condensada.
- Aplicaciones industriales personalizadas: Adaptable a los requisitos de sputtering específicos del cliente en industrias de alta tecnología.

Embalaje de cátodos para sputtering de manganato de lantano y cobre (La2CuMnO6)

Nuestros cátodos para sputtering se embalan cuidadosamente para mantener su estado prístino durante el transporte. Cada cátodo está sellado de forma segura para protegerlo contra la contaminación y los daños, con opciones de embalaje disponibles para adaptarse tanto a pedidos de investigación a pequeña escala como a envíos industriales de mayor tamaño.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Qué aplicaciones son las más adecuadas para el cátodo para sputtering La2CuMnO6?
R: Es ideal para la deposición de películas finas en microelectrónica, fabricación de semiconductores, tecnología de recubrimientos e investigación de materiales avanzados.

P: ¿Cómo se mantiene la alta pureza (≥99%) del cátodo para sputtering?
R: El cátodo se produce bajo un estricto control de calidad mediante procesos de fabricación avanzados para garantizar un nivel de pureza elevado y constante.

P: ¿Puedo solicitar una forma personalizada para el cátodo para sputtering?
R: Sí, además de los discos estándar, ofrecemos formas a medida para satisfacer requisitos específicos del proceso o del equipo.

P: ¿Qué indica el "Tipo de enlace: indio, elastómero"?
R: Indica que el cátodo está unido mediante materiales de indio y elastómero, que ayudan a asegurar el cátodo durante el proceso de sputtering y mejoran la estabilidad.

P: ¿Cómo debe almacenarse el cátodo para sputtering antes de su uso?
R: Se recomienda almacenar el cátodo en un entorno limpio, seco y libre de contaminantes para mantener su rendimiento y longevidad.