(Descatalogado) ST0308 Blanco para sputtering de seleniuro de germanio (GeSe2)

Descripción del cátodo para sputtering de seleniuro de germanio (GeSe2)

El cátodo para sputtering de seleniuro de germanio (GeSe2) es un material de alta pureza diseñado para procesos avanzados de deposición por sputtering. Con una composición de GeSe₂ y un punto de fusión de 707℃, este cátodo está optimizado para aplicaciones de semiconductores y películas finas en las que la precisión y el rendimiento son cruciales. Sus formas personalizables, que se ofrecen como discos estándar o configuraciones a medida, garantizan la compatibilidad con una gran variedad de sistemas de sputtering y requisitos de fabricación.

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de seleniuro de germanio (GeSe2)

- Fabricación de semiconductores: Ideal para depositar películas finas en circuitos integrados y otros dispositivos semiconductores.
- Dispositivos optoelectrónicos: Adecuado para la creación de óptica infrarroja y fotodetectores.
- Células solares: Mejora el rendimiento fotovoltaico al permitir la deposición uniforme de películas.
- Investigación y desarrollo: Apoya estudios avanzados de materiales y procesos experimentales de películas finas.

Empaquetadura de cátodos para sputtering de seleniuro de germanio (GeSe2)

Nuestros cátodos para sputtering de seleniuro de germanio se embalan cuidadosamente para mantener la integridad del producto durante el almacenamiento y el transporte. Disponemos de soluciones de embalaje personalizadas, como contenedores sellados al vacío, para proteger el cátodo de contaminantes y garantizar un rendimiento óptimo.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Qué aplicaciones son las más adecuadas para el cátodo para sputtering de seleniuro de germanio (GeSe2)?
R: Se utiliza principalmente en la fabricación de semiconductores, dispositivos optoelectrónicos, células solares y en I+D para procesos avanzados de deposición de películas finas.

P: ¿Por qué es importante la alta pureza (≥99%) de este cátodo para sputtering?
R: La alta pureza minimiza la contaminación durante la deposición, lo que garantiza una calidad superior de la película y un rendimiento constante del dispositivo.

P: ¿Se puede personalizar el cátodo más allá de las formas de disco estándar?
R: Sí, el cátodo está disponible en formas personalizadas para satisfacer los requisitos específicos de equipos o aplicaciones.

P: ¿Cómo influye el punto de fusión de 707℃ en su uso?
R: Un punto de fusión de 707℃ garantiza que el cátodo mantenga la integridad estructural durante los procesos de sputtering a alta temperatura, proporcionando una deposición estable y fiable.

P: ¿Qué indica "Sputter: N/A" en la información del producto?
R: Indica que no hay ningún método de sputtering específico asociado a este cátodo, lo que significa que está diseñado para su uso directo en procesos de deposición por sputtering sin modificaciones adicionales.