Descatalogado (Descatalogado) ST0293 Blanco para sputtering de boruro de hafnio (HfB2)

Descripción del cátodo para sputtering de boruro de hafnio (HfB2)

El cátodo para sputtering de boruro de hafnio (HfB2) es un material de alto rendimiento diseñado para aplicaciones industriales avanzadas. Fabricado con rigurosos estándares de calidad y ofreciendo una pureza de ≥99%, este material proporciona un rendimiento excepcional en entornos de alta temperatura gracias a su alto punto de fusión de 3250℃ y densidad de 10,5 g/cm³. Disponible en discos o formatos a medida, admite diversas técnicas de sputtering, incluidos los métodos RF, RF-R y DC. La versatilidad de sus opciones de unión -utilizando indio o elastómero- amplía aún más su campo de aplicación en la fabricación de semiconductores, la deposición de películas finas y las tecnologías de revestimiento de alta gama.

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de boruro de hafnio (HfB2)

- Fabricación de semiconductores: Esencial para la deposición de película fina y la fabricación de circuitos integrados.
- Tecnologías de revestimiento: Utilizado para producir revestimientos duraderos y conductores en herramientas y componentes industriales.
- Investigación avanzada: Ideal para estudios de ciencia de materiales y montajes experimentales que requieren una gran estabilidad térmica.
- Procesos industriales a alta temperatura: Rendimiento fiable en entornos térmicos extremos.

Embalaje de cátodos para sputtering de boruro de hafnio (HfB2)

Nuestros cátodos para sputtering de boruro de hafnio se envasan bajo estrictas medidas de control de calidad para garantizar que mantienen su estado prístino durante el almacenamiento y el transporte. Los productos se sellan al vacío y están disponibles en tamaños personalizados para satisfacer las necesidades de los clientes.

Preguntas más frecuentes

P: ¿Cuáles son las principales aplicaciones del cátodo para sputtering de boruro de hafnio (HfB2)?
R: Se utiliza principalmente en la fabricación de semiconductores, procesos de deposición de películas finas, aplicaciones avanzadas de recubrimiento y operaciones industriales a alta temperatura.

P: ¿Qué técnicas de sputtering pueden utilizarse con este cátodo?
R: El cátodo es compatible con los métodos de sputtering RF, RF-R y DC.

P: ¿Se puede personalizar la forma del cátodo para sputtering?
R: Sí, puede fabricarse en forma de disco o a medida según requisitos específicos.

P: ¿Cómo beneficia el alto punto de fusión del 3250℃ a las aplicaciones industriales?
R: El alto punto de fusión garantiza que el blanco mantenga la integridad estructural y el rendimiento en entornos de alta temperatura, lo que lo hace ideal para aplicaciones exigentes.

P: ¿Qué medidas de garantía de calidad se aplican a este producto?
R: El producto se fabrica con un nivel de pureza ≥99% y se somete a estrictos controles de calidad para garantizar un rendimiento y una fiabilidad constantes.