Descripción del cátodo para sputtering de trióxido de titanio (Ti2O3)
El cátodo para sputtering de trióxido de titanio (Ti2O3) está meticulosamente diseñado para satisfacer los exigentes requisitos de los modernos procesos de deposición de películas finas. Fabricado con un enfoque de alta pureza (≥99%) y precisión, este cátodo para sputtering está disponible como discos estándar o puede fabricarse a medida para adaptarse a especificaciones industriales concretas. Con un punto de fusión de aproximadamente 2130℃ y una densidad de 4,49 g/cm³, el material está optimizado para aplicaciones de alta temperatura en las industrias de recubrimientos avanzados y semiconductores. Diseñado para ofrecer un rendimiento y una reproducibilidad excepcionales, nuestro cátodo para sputtering favorece la formación de películas fiables y consistentes para diversas aplicaciones de alta tecnología.
Aplicaciones de los cátodos para sputtering de trióxido de titanio (Ti2O3)
- Deposición de películas finas: Fundamental para la fabricación de dispositivos semiconductores, revestimientos ópticos y componentes microelectrónicos.
- Recubrimientos avanzados: Utilizados en la producción de revestimientos resistentes al desgaste y a altas temperaturas en todos los sectores industriales.
- Investigación y desarrollo: Ideal para montajes experimentales en investigación de ingeniería y ciencia de materiales.
- Fabricación de componentes electrónicos: Admite los procesos de deposición necesarios para los dispositivos electrónicos y sensores modernos.
Embalaje de cátodos para sputtering de trióxido de titanio (Ti2O3)
Nuestros cátodos para sputtering de trióxido de titanio (Ti2O3) se envasan según las especificaciones del cliente para garantizar una conservación óptima y una fácil manipulación. Los métodos de embalaje estándar incluyen el sellado al vacío y configuraciones de embalaje personalizadas para mantener la integridad del material durante el transporte y el almacenamiento.
Preguntas más frecuentes
P: ¿Por qué el trióxido de titanio (Ti2O3) es un material ideal para cátodos para sputtering?
R: Su elevada pureza (≥99%), alto punto de fusión y sólidas propiedades físicas garantizan un rendimiento constante en procesos de deposición a alta temperatura.
P: ¿Se pueden personalizar las formas de los cátodos para sputtering?
R: Sí, los cátodos están disponibles como discos estándar, así como con formas personalizadas para satisfacer los requisitos específicos de la aplicación.
P: ¿Cómo beneficia el alto punto de fusión de ~2130℃ a las aplicaciones de sputtering?
R: El alto punto de fusión permite al material soportar las intensas tensiones térmicas durante la deposición, lo que garantiza la durabilidad y la estabilidad del rendimiento.
P: ¿Qué papel desempeña el enlace de indio en estos cátodos para sputtering?
R: El enlace de indio mejora la resistencia de la conexión entre el material del cátodo y la placa de soporte, mejorando la transferencia de calor y el rendimiento general del cátodo.
P: ¿En qué industrias se utilizan habitualmente los cátodos para sputtering de trióxido de titanio?
R: Se utilizan ampliamente en la fabricación de semiconductores, la producción de revestimientos ópticos, la electrónica avanzada y los laboratorios de investigación centrados en la deposición de películas finas.
