Cátodos para sputtering de manganato cálcico de lantano (La0.67Ca0.33MnO3) Descripción
El cátodo para sputtering de manganato cálcico de lantano (La0,67Ca0,33MnO3) está diseñado para aplicaciones avanzadas de deposición de películas finas. Fabricado con una mezcla precisa de La2O3, Mn3O4 y CaO, este cátodo garantiza un rendimiento constante en condiciones exigentes de sputtering. Su elevada pureza y microestructura controlada permiten una deposición fiable tanto en entornos de investigación como industriales. Diseñado para ser compatible con sistemas de sputtering RF, RF-R y DC, ofrece una calidad de película uniforme y excelentes propiedades de adhesión.
Aplicaciones del cátodo para sputtering de manganato cálcico de lantano (La0,67Ca0,33MnO3)
- Fabricación de dispositivos semiconductores: Ideal para producir películas finas de alta calidad en componentes electrónicos.
- Recubrimientos ópticos: Utilizados en la fabricación de filtros ópticos de precisión, espejos y otros componentes.
- Tecnologías de visualización: Apoya los procesos de deposición en la producción de paneles LCD y OLED.
- Investigación avanzada: Ofrece un rendimiento constante para estudios de ciencia de materiales y aplicaciones experimentales.
- Recubrimientos industriales: Proporciona una excelente uniformidad de película para revestimientos protectores y funcionales en diversas industrias.
Embalaje de cátodos para sputtering de manganato de lantano y calcio (La0.67Ca0.33MnO3)
Nuestros cátodos para sputtering se embalan con sumo cuidado para garantizar que lleguen en perfectas condiciones. Están disponibles en formato de disco estándar o en configuraciones a medida, y se envían en condiciones controladas para mantener su alta calidad durante el transporte.
Preguntas más frecuentes
P: ¿Qué técnicas de sputtering son compatibles con este cátodo?
R: Este cátodo es compatible con los sistemas de sputtering RF, RF-R y DC, lo que lo hace versátil para diversos procesos de deposición de películas finas.
P: ¿Puedo solicitar una forma o tamaño personalizados para el cátodo para sputtering?
R: Sí, el producto está disponible en forma de discos estándar o puede fabricarse a medida para satisfacer requisitos de aplicación específicos.
P: ¿Cómo beneficia la composición de La2O3 / Mn3O4 / CaO al proceso de sputtering?
R: La composición precisa garantiza una alta pureza y una microestructura controlada, lo que se traduce en una calidad constante de la película, unas condiciones de deposición estables y un mayor rendimiento.
P: ¿Qué industrias suelen utilizar cátodos para sputtering de manganato cálcico de lantano?
R: Se utilizan ampliamente en la fabricación de semiconductores, la producción de revestimientos ópticos, la tecnología de visualización y las aplicaciones de investigación avanzada.
P: ¿Qué ventajas ofrece el alto punto de fusión de ~1400-1500℃ para las aplicaciones de sputtering?
R: Un punto de fusión elevado garantiza una excelente estabilidad térmica durante el sputtering, lo que permite al cátodo soportar operaciones de alta potencia sin comprometer el rendimiento.
