Descripción del cátodo para sputtering de praseodimio (Pr)
El cátodo para sputtering de praseodimio (Pr) es un material de primera calidad producido con una composición de Pr de alta pureza (≥99%) y está disponible en discos diseñados con precisión o en formas a medida. Con un punto de fusión de 931℃ y una densidad de 6,73 g/cm³, está optimizado para procesos de sputtering DC, garantizando una uniformidad y adherencia superiores de la película. Este cátodo para sputtering es especialmente adecuado para técnicas de deposición avanzadas en aplicaciones de semiconductores, pantallas y óptica, donde el alto rendimiento y la precisión son fundamentales.
Aplicaciones de los cátodos para sputtering de praseodimio (Pr)
- Deposición de películas finas: Ideal para crear películas finas uniformes en la fabricación de semiconductores y dispositivos electrónicos.
- Fabricación de pantallas: Utilizado en la fabricación de paneles de visualización que requieren un recubrimiento y deposición precisos.
- Recubrimientos ópticos: Aplicado en componentes ópticos para conseguir revestimientos reflectantes y antirreflectantes de alta calidad.
- Investigación y desarrollo: Perfecto para configuraciones experimentales en ciencia de materiales para tecnologías de sputtering y revestimiento.
Embalaje de cátodos de praseodimio (Pr) para sputtering
Nuestros cátodos para sputtering de praseodimio (Pr) se embalan con sumo cuidado para mantener su integridad y garantizar que lleguen a nuestros clientes en condiciones óptimas.
El embalaje sellado al vacío está disponible en tamaños personalizados según los requisitos del cliente.
Preguntas más frecuentes
P: ¿Qué es un cátodo para sputtering?
R: Un cátodo para sputtering es un material sólido que se utiliza en procesos de deposición física de vapor para producir películas finas sobre sustratos mediante bombardeo iónico.
P: ¿Cómo se garantiza la alta pureza (≥99%) del cátodo de Pr?
R: La pureza se mantiene mediante un riguroso procesamiento, control de calidad y técnicas especializadas de refinado durante la producción.
P: ¿Qué industrias utilizan habitualmente cátodos para sputtering de praseodimio?
R: Las aplicaciones más comunes son la fabricación de semiconductores, las tecnologías de visualización, los revestimientos ópticos y diversos proyectos de investigación y desarrollo.
P: ¿Se puede personalizar la forma del cátodo para sputtering?
R: Sí, el cátodo para sputtering de praseodimio (Pr) está disponible en forma de disco estándar o puede fabricarse a medida para satisfacer requisitos de aplicación específicos.
P: ¿Qué técnica de deposición se recomienda con este cátodo?
R: El cátodo está optimizado para sputtering DC, ampliamente utilizado en los procesos industriales de deposición de películas finas.
