Horno tubular 1200C para CVD OTF-1200X-HVC3 Descripción
El horno tubular de 1200C para CVDOTF-1200X-HVC3 consta de un horno tubular de la serie OTF-1200X, una estación de control de gas de flujo másico de precisión, una estación de alto vacío y otros componentes esenciales. Esta estación de trabajo tiene una temperatura máxima de trabajo de 1200°C y puede alcanzar un nivel de vacío final de 10^-4 torr con el conjunto de sellado suministrado. La estación de control de gas de flujo másico puede mezclar hasta tres tipos de gases y permite que los gases mezclados fluyan hacia un tubo de cuarzo fundido dentro del horno. Esta configuración es ideal para realizar experimentos como la deposición química en fase vapor (CVD), la difusión y otros tratamientos térmicos en condiciones de vacío y con protección de gas de protección.
Horno tubular 1200C para CVD OTF-1200X-HVC3 Especificaciones
Hornotubular serie OTF-1200X
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Estructura del horno
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- Carcasa de acero de doble capa con refrigeración por aire.
- Termostato incorporado para controlar la refrigeración funcionando automáticamente cuando la caja > 55°C.
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Tubo de procesamiento
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- Material: Tubo de cuarzo fundido
- Se incluye un tubo de procesamiento con el horno.
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Potencia
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2.5KW, 208-240VAC, Monofásico, 50/60Hz
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Temp. de trabajo
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- Max. Temp: 1200℃ (1 hr); 1100℃ (continua)
- Velocidad de calentamiento: ≤20℃/min
- Precisión de temperatura: ±1,0℃
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Longitud de la zona de calentamiento
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- Zona de calentamiento total: 440mm
- Temp. constante Zona: 150mm (±1°C)
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Elementos calefactores
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Aleación Fe-Cr-Al dopada con Mo
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Temp. Controlador
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- Control automático PID con segmentos programables de 30 pasos.
- Precisión de temperatura: ±1°C
- Termopar: Tipo K incorporado en el interior del horno
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Sello de vacío
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- Un par de bridas de vacío de acero inoxidable con:
un manómetro mecánico
dos válvulas de aguja
un conector KF-25 para la estación de alto vacío
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Potencia
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100-110W
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Tensión nominal
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208-240VAC, monofásico, 50/60Hz
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Estación de alto vacío
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Estructura
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Tamaño del carro móvil: 600 (L) x 600 (An) x 700(Al), mm
Carga máx. Carga 600 Lbs en la parte superior
Panel de control de la bomba molecular: LCD digital
Interior: Bomba de vacío
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Caudal
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Nitrógeno N2: 33 L/s
Helio He: 39 L/s (2340L/minuto)
Hidrógeno H2: 32 L/s
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Rango de trabajo
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De 1000 mbar a <1E-7 mbar
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Presión máxima
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<1E-8 mbar (sin fugas)
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Control de gas de flujo másico
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Estructura
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Hecho de válvula de acero inoxidable 316
Tanque de mezcla de gas: Φ80X120mm
600mm(L) x 745mm(W) x 700mm(H)
Panel de control con pantalla táctil en color de 6" para facilitar la configuración de los parámetros.
Control de pantalla táctil y PC remoto conmutable.
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Potencia
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23 W por canal
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Tensión nominal
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AC 220V/50Hz Monofásico
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Horno tubular 1200C para aplicaciones CVD OTF-1200X-HVC3
- Deposición química en fase vapor (CVD): Se utiliza para depositar películas delgadas y recubrimientos sobre sustratos mediante la mezcla y reacción de diferentes gases a altas temperaturas.
- Procesos de difusión: Facilita el movimiento de átomos o moléculas dentro de los sólidos, esencial en la fabricación de semiconductores y otras ciencias de los materiales.
- Recocido: Ayuda a aliviar las tensiones internas, mejorar la ductilidad y refinar la microestructura de los materiales.
- Sinterización: Adecuado para compactar y formar masas sólidas a partir de materiales en polvo sin licuarlos, muy utilizado en cerámica y metalurgia.
- Investigación de materiales: Ideal para estudiar las propiedades y comportamientos térmicos de diferentes materiales en condiciones atmosféricas controladas.
Horno tubular para CVD de 1200C OTF-1200X-HVC3 Embalaje
Nuestro Horno tubular para CVD de 1200C OTF-1200X-HVC3 es cuidadosamente manipulado durante el almacenamiento y transporte para preservar la calidad de nuestro producto en su estado original.
Especificación
Hornotubular serie OTF-1200X
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Estructura del horno
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- Carcasa de acero de doble capa con refrigeración por aire.
- Termostato incorporado para controlar la refrigeración funcionando automáticamente cuando la caja > 55°C.
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Tubo de procesamiento
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- Material: Tubo de cuarzo fundido
- Se incluye un tubo de procesamiento con el horno.
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Potencia
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2.5KW, 208-240VAC, Monofásico, 50/60Hz
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Temp. de trabajo
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- Max. Temp: 1200℃ (1 hr); 1100℃ (continua)
- Velocidad de calentamiento: ≤20℃/min
- Precisión de temperatura: ±1,0℃
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Longitud de la zona de calentamiento
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- Zona de calentamiento total: 440mm
- Temp. constante Zona: 150mm (±1°C)
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Elementos calefactores
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Aleación Fe-Cr-Al dopada con Mo
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Temp. Controlador
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- Control automático PID con segmentos programables de 30 pasos.
- Precisión de temperatura: ±1°C
- Termopar: Tipo K incorporado en el interior del horno
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Sello de vacío
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- Un par de bridas de vacío de acero inoxidable con:
un manómetro mecánico
dos válvulas de aguja
un conector KF-25 para la estación de alto vacío
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Potencia
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100-110W
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Tensión nominal
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208-240VAC, monofásico, 50/60Hz
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Estación de alto vacío
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Estructura
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Tamaño del carro móvil: 600 (L) x 600 (An) x 700(Al), mm
Carga máx. Carga 600 Lbs en la parte superior
Panel de control de la bomba molecular: LCD digital
Interior: Bomba de vacío
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Caudal
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Nitrógeno N2: 33 L/s
Helio He: 39 L/s (2340L/minuto)
Hidrógeno H2: 32 L/s
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Rango de trabajo
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De 1000 mbar a <1E-7 mbar
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Presión máxima
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<1E-8 mbar (sin fugas)
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Control de gas de flujo másico
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Estructura
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Hecho de válvula de acero inoxidable 316
Tanque de mezcla de gas: Φ80X120mm
600mm(L) x 745mm(W) x 700mm(H)
Panel de control con pantalla táctil en color de 6" para facilitar la configuración de los parámetros.
Control de pantalla táctil y PC remoto conmutable.
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Potencia
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23 W por canal
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Tensión nominal
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AC 220V/50Hz Monofásico
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