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ST11221 Blanco planar de sulfuro de zinc, blanco ZnS

Catálogo No. ST11221
Composición ZnS
Pureza ≥99,99%, o personalizado
Formulario Objetivo
Forma Rectangular
Dimensiones Personalizado

Zinc Sulfide Planar Target, ZnS Target está diseñado para procesos precisos de deposición por sputtering. El cátodo se fabrica con una geometría plana controlada para permitir la formación uniforme de películas finas. Stanford Advanced Materials (SAM) emplea inspecciones SEM detalladas y sinterización en atmósfera controlada para confirmar la homogeneidad del material y el control de impurezas. Estos protocolos técnicos garantizan que el cátodo cumple los estrictos requisitos para la deposición uniforme de películas en aplicaciones industriales.

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FAQ

¿Qué significa utilizar una geometría plana en los cátodos para sputtering de ZnS?

Una geometría plana garantiza un espesor uniforme de la película durante el sputtering, reduciendo la variación de las capas depositadas. Esta característica es esencial para procesos que requieren propiedades ópticas y eléctricas uniformes. Póngase en contacto con nosotros para obtener más detalles técnicos.

¿Cómo influye el proceso de sinterización en la calidad del blanco de ZnS?

La sinterización controlada promueve una microestructura homogénea y minimiza las impurezas. Este proceso mejora la densidad del material y el rendimiento general durante la deposición por sputtering. Póngase en contacto con nosotros para obtener más información sobre el proceso de fabricación.

¿Se pueden adaptar las dimensiones del cátodo de ZnS a sistemas de sputtering específicos?

Sí, las dimensiones son personalizables para cumplir los requisitos de los equipos, lo que garantiza la compatibilidad con diversos sistemas de sputtering. Esta flexibilidad permite la integración en diversas configuraciones de deposición manteniendo la uniformidad de la película. Póngase en contacto con nosotros para conocer las opciones de personalización.

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