ST11216 Blanco planar de siliciuro de tántalo, blanco TaSi2

Blanco Planar Siliciuro de Tántalo, Blanco TaSi2 Descripción

El blanco planar de siliciuro de tántalo, TaSi2, se fabrica a partir de un compuesto TaSi2 mediante un proceso de planarización controlado. El blanco está diseñado para mostrar una microestructura uniforme con dimensiones personalizables que soportan la deposición reproducible de película fina. Esta consistencia en la estructura del grano y la composición desempeña un papel fundamental en la consecución de un espesor uniforme de la película y una alta reproducibilidad de la deposición en el procesamiento de semiconductores y otras aplicaciones avanzadas de revestimiento.

Cátodos planares de siliciuro de tántalo, TaSi2 Características de los cátodos

La información del producto anterior se basa en datos teóricos y es sólo de referencia. Las especificacionesreales pueden variar.

Cátodos planares de siliciuro de tántalo, TaSi2 Aplicaciones

1.Electrónica y Semiconductores
- Utilizado como fuente de sputtering en sistemas de deposición de semiconductores para conseguir capas de película uniformes aprovechando su microestructura controlada. Esta aplicación minimiza la contaminación por partículas y mejora la consistencia de la capa.

2.Procesado industrial
- Se aplica como blanco en sistemas de revestimiento para mejorar la durabilidad de la superficie de componentes industriales. Su composición a medida y su estructura granular plana favorecen la transferencia eficaz de energía durante el sputtering, reduciendo la variabilidad del proceso.

3.Investigación y desarrollo
- Sirve como muestra en estudios avanzados de películas finas para analizar el comportamiento de la deposición. Sus dimensiones personalizables permiten una optimización precisa de los montajes experimentales, facilitando la evaluación detallada del rendimiento del material.

Blanco planar de siliciuro de tántalo, TaSi2 Embalaje del blanco

El cátodo se embala en un contenedor protector antiestático con relleno de espuma para evitar daños mecánicos durante el transporte. Está sellado en bolsas de barrera contra la humedad y asegurado dentro de una caja exterior rígida para minimizar la contaminación. Se recomienda almacenarlo en un ambiente fresco y seco, y se pueden solicitar opciones de embalaje personalizadas, como contenedores sellados al vacío o con clima controlado.

Información adicional

El desarrollo de cátodos para sputtering como el cátodo planar de siliciuro de tántalo, TaSi2, implica un conocimiento exhaustivo de las propiedades del material y de las técnicas de procesamiento. El control de parámetros como la estructura del grano y la composición influye directamente en el rendimiento de la deposición y en la uniformidad de la película en aplicaciones industriales y de investigación.

La producción y utilización de cátodos de TaSi2 se basa en los principios de la ciencia de los materiales. Estudios detallados de las propiedades térmicas y eléctricas, así como de la integridad microestructural, guían los avances en la deposición de películas finas. Este conocimiento contribuye a la mejora continua de los procesos de fabricación de cátodos, garantizando la compatibilidad con las exigentes aplicaciones de semiconductores y revestimientos.