ST11214 Blanco planar de tántalo, blanco Ta

Cátodos planares de tántalo, Cátodos Ta Descripción

Los cátodos planares de tántalo Ta se fabrican a partir de tántalo de gran pureza con un acabado superficial planar cuidadosamente controlado y optimizado para sputtering. Las dimensiones a medida del producto garantizan la compatibilidad con los sistemas de deposición estándar, mientras que su microestructura controlada minimiza la contaminación por partículas durante los procesos de recubrimiento, lo que facilita la formación eficaz de capas en la fabricación de semiconductores y otras aplicaciones industriales en las que es fundamental la deposición uniforme de la película.

Cátodos planares de tántalo, Ta Características de los cátodos

*La información del producto anterior se basa en datos teóricos y es sólo de referencia. Las especificaciones reales pueden variar.

Blanco planar de tántalo, blanco Ta Aplicaciones

1.Electrónica
- Utilizado como cátodo para sputtering en sistemas de deposición de semiconductores para conseguir capas uniformes de película fina aprovechando la microestructura controlada del material. Este enfoque minimiza los defectos superficiales y mejora la consistencia del recubrimiento.

2.Recubrimientos industriales
- Se aplica como blanco principal en sistemas de deposición física de vapor para producir revestimientos decorativos o funcionales duraderos. Su gran pureza y su punto de fusión estable facilitan la formación de películas uniformes, lo que es fundamental para el rendimiento en entornos industriales.

Blanco planar de tántalo, empaquetado de blanco Ta

Este cátodo planar de tántalo se envasa en recipientes antiestáticos diseñados a medida con acolchado de espuma para mitigar los choques mecánicos y los riesgos de contaminación. Cada blanco está sellado en una bolsa de barrera contra la humedad con desecantes para controlar la humedad. También están disponibles opciones de embalaje personalizadas, como inserciones de espuma compartimentadas y cajas etiquetadas. Para una conservación óptima, almacene los objetivos en un entorno con temperatura controlada y sin polvo.

Información adicional

El tántalo es un metal refractario conocido por su resistencia a la corrosión y su alto punto de fusión. Comprender la relación entre el control de la microestructura y la pureza del material es esencial para lograr un crecimiento uniforme de la película en aplicaciones industriales y de semiconductores.

Los avances en las técnicas de procesamiento de materiales siguen mejorando el rendimiento de los cátodos para sputtering. Los investigadores e ingenieros se centran en optimizar parámetros como el tamaño de grano y el acabado superficial para mejorar la eficacia de la deposición y la calidad de la película. Estos esfuerzos contribuyen al campo más amplio de las aplicaciones de metales no férreos, donde la precisión de las características del material es primordial.