ST11209: Blanco de pulverización de silicio, blanco de Si

Name: ST11209 Silicon Sputtering Target, Si Target
SKU: ST11209
Availability: InStock
Rating: 4.9 (166 reviews)

Catálogo No.	ST11209
Composición	Sí
Pureza	≥99,99 %, o a medida
Formulario	Objetivo
Forma	Redondo, rectangular
Dimensiones	Personalizado

El blanco de pulverización de silicio (blanco de Si) es un blanco de silicio metálico fabricado para la deposición física de vapor. Stanford Advanced Materials (SAM) aplica prácticas consolidadas de deposición química de vapor y utiliza microscopía electrónica propia para supervisar la uniformidad de la superficie durante la producción. El proceso de SAM incluye una inspección cuantitativa de defectos y mediciones calibradas de densidad para mantener las especificaciones del material que resultan fundamentales para la deposición de películas finas. Este blanco se fabrica prestando especial atención a la composición medida y a la precisión dimensional.

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ST11209: Blanco de pulverización de silicio, blanco de Si

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Composición

Sí

Pureza

≥99,99 %, o a medida

Formulario

Objetivo

Forma

Redondo, rectangular

Dimensiones

Personalizado

ST0047: Blancos y discos de pulverización de aleación de niobio y circonio

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Material

R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)

Dimensiones

Objetos circulares: diámetro de 10 a 400 mm; grosor de 2 a 28 mm

Pureza

99,9 % 99,95 % 99,99 %

ST0056 Blancos de aleación de niobio y hafnio (NbHf)

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Dimensiones

Diámetro: 10-400 mm, o a medida

Material

Nb-10Hf

Formulario

Blanco, Disco

ITO0491 Cátodos para sputtering de óxido de indio y estaño (ITO)

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Material

90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2

Pureza

>=99.99%

Densidad

7,1 g/cm3

FAQ

¿Cómo influye la función de dimensión personalizada en la uniformidad de la deposición de la película en aplicaciones de pulverización catódica?

Las dimensiones personalizadas permiten la integración en configuraciones de equipos que requieren tamaños de objetivo específicos, lo que puede mejorar la uniformidad de la deposición de películas finas. La adaptación a los requisitos del proceso minimiza los efectos de borde y favorece un crecimiento uniforme de la película. Ponte en contacto con nosotros para obtener asesoramiento detallado sobre la integración.

¿Qué especificaciones de pureza del material suelen cumplirse en los blancos de pulverización de silicio?

El silicio de alta pureza se utiliza para reducir las variaciones en las capas depositadas provocadas por contaminantes. El proceso de producción incluye ensayos cuantitativos e inspecciones de la superficie para verificar que el silicio cumple los niveles de pureza controlados, esenciales para los procesos de semiconductores.

¿Se puede adaptar el blanco de silicio a los distintos requisitos de los sistemas de pulverización catódica?

Sí, es posible personalizar las dimensiones. Esto permite que el blanco se adapte a diversas geometrías de cámara y sistemas de deposición. El ajuste del tamaño del blanco ayuda a optimizar la eficiencia de la pulverización catódica y la uniformidad de la película en diferentes configuraciones de producción.

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Característica	Valor
Composición	Si
Pureza	≥99,99 %, o a medida
Forma	Destino
Forma	Redonda, rectangular
Densidad	2,32 g/cm³
Conductividad térmica	150^{W·m⁻¹·K⁻¹}
Tipo de unión	Indio, elastómero
Dimensiones	A medida

Propiedad	Valor
Composición	Si
Pureza	≥99,99 %, o a medida
Forma	Destino
Forma	Redonda, rectangular
Densidad	2,32 g/cm³
Conductividad térmica	150^{W·m⁻¹·K⁻¹}
Tipo de unión	Indio, elastómero
Dimensiones	A medida

Region & Language

North America

South America

Europe

Asia Pacific

Middle-East

ST11209: Blanco de pulverización de silicio, blanco de Si

Blanco de pulverización de silicio, descripción del blanco de Si

Características del blanco de pulverización de silicio (blanco de Si)

Blanco de pulverización de silicio, blanco de Si. Aplicaciones

Blanco de pulverización de silicio, embalaje del blanco de Si

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