ST11209 Cátodos de silicio para sputtering, cátodos de Si

Cátodos de silicio para sputtering, Cátodos Si Descripción

El cátodo para sputtering de silicio, Si Target, está fabricado a partir de silicio metálico de gran pureza y está diseñado para su uso en sistemas de deposición física de vapor. Las dimensiones personalizables del cátodo garantizan su compatibilidad con los equipos estándar de fabricación de semiconductores. Su composición y estructura están diseñadas para permitir la deposición uniforme de películas de silicio, reduciendo la variabilidad del proceso en aplicaciones de recubrimiento de películas finas.

Cátodos para sputtering de silicio, características de los cátodos Si

La información del productoanterior se basa en datos teóricos y es sólo de referencia. Las especificaciones reales pueden variar.

Cátodos para sputtering de silicio, Cátodos Si Aplicaciones

Electrónica y fabricación de semiconductores
- Se utiliza como fuente de deposición en sistemas de pulverización catódica para lograr una formación uniforme de la película de silicio aprovechando la pureza controlada y las dimensiones personalizables.
- Aplicado como blanco activo en transistores de película fina para controlar el espesor de la película y mejorar el rendimiento del dispositivo a través de propiedades consistentes del material.

Procesos de recubrimiento industrial
- Sirve como medio de pulverización catódica en sistemas de revestimiento para formar capas protectoras utilizando su composición medida y consistencia estructural, reduciendo la tensión de la película durante la deposición.
- Se emplea en la fabricación de células solares para depositar capas intrínsecas de silicio, contribuyendo a mejorar la eficiencia fotovoltaica al garantizar una deposición uniforme del material.

Cátodos para sputtering de silicio, embalaje de cátodos de silicio

Los cátodos de silicio para sputtering se embalan en un contenedor de plástico limpio y sellado con inserciones de espuma antiestática para evitar daños mecánicos y contaminación. El embalaje está diseñado para excluir el polvo y la humedad, garantizando el almacenamiento en un entorno controlado de baja humedad. Existen opciones de envasado personalizadas, como envases sellados al vacío o cajas acolchadas, para adaptarse a requisitos de manipulación específicos.

Información adicional

Los cátodos de silicio utilizados en sputtering son un componente fundamental en la deposición de películas finas, esenciales en la fabricación de semiconductores y microelectrónica. Su pureza controlada, su composición constante y sus dimensiones personalizables permiten adaptar con precisión las propiedades electrónicas de las películas depositadas. La investigación sigue perfeccionando las técnicas de pulverización catódica, haciendo hincapié en la reducción de defectos y la uniformidad de la película.

El proceso de producción de cátodos de silicio para sputtering implica una cuidadosa evaluación de las características del material, como la densidad y el punto de fusión. La comprensión de estos parámetros ayuda a optimizar el proceso de deposición por pulverización catódica, que desempeña un papel fundamental en la fabricación de dispositivos con características eléctricas de alto rendimiento.