ST11205 Blanco rotativo de níquel vanadio, blanco NiV

Níquel Vanadio Rotary Target, NiV Target Descripción

El cátodo rotativo de níquel-vanadio, NiV Target, está diseñado para aplicaciones de sputtering magnetrónico, facilitando la deposición de películas de níquel-vanadio con propiedades controladas. Las dimensiones personalizables del cátodo permiten su integración con diversos sistemas de sputtering, garantizando que el espesor y la uniformidad de la película cumplan los rigurosos requisitos del proceso. La estabilidad química inherente a la aleación de níquel-vanadio permite aplicaciones en las que la integridad y la precisión de la película son fundamentales. El acabado superficial mejorado minimiza la contaminación por partículas durante la deposición.

Blanco rotativo de níquel-vanadio, Características del blanco NiV

*La información del producto anterior se basa en datos teóricos y es sólo de referencia. Las especificaciones reales pueden variar.

Blanco rotativo de níquel vanadio, aplicaciones de blanco NiV

Electrónica
- Se utiliza como blanco para sputtering en la fabricación de semiconductores para lograr una deposición uniforme de película fina aprovechando las dimensiones personalizables.

Industrial
- Aplicado como fuente de recubrimiento en sistemas tribológicos para reducir el desgaste utilizando la composición de aleación controlada del cátodo.

Comercial
- Sirve como blanco en sistemas de revestimiento decorativo para conseguir acabados superficiales uniformes aprovechando el control preciso de la deposición de la película.

Plaquita rotativa de níquel vanadio, embalaje de la plaquita NiV

Los cátodos rotativos de níquel vanadio se embalan en contenedores protectores de acero inoxidable forrados de espuma que minimizan los daños físicos durante el transporte y el almacenamiento. El embalaje incluye una atmósfera de gas inerte para reducir los riesgos de oxidación y emplea materiales de barrera contra la humedad para evitar la contaminación. Se recomienda el almacenamiento en condiciones de temperatura y humedad controladas. Se pueden solicitar soluciones de envasado personalizadas, como opciones antiestáticas y selladas al vacío, para satisfacer requisitos de manipulación específicos.

Información adicional

Las aleaciones de níquel-vanadio se utilizan ampliamente en aplicaciones de sputtering debido a sus propiedades físicas estables y a su rendimiento constante en condiciones de plasma. Comprender la interacción entre la composición del blanco y los parámetros de sputtering es esencial para conseguir una deposición uniforme de la película en los procesos de fabricación.

La elección de materiales para cátodos de sputtering afecta significativamente a la calidad de las películas finas producidas en industrias que van desde la fabricación de semiconductores a los recubrimientos decorativos. La investigación sobre el comportamiento de las aleaciones en condiciones prolongadas de sputtering sigue mejorando la eficacia de los procesos y el rendimiento de los materiales en diversos entornos industriales.