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Stanford Advanced Materials
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ST11191 Blanco giratorio de indio, en blanco

Catálogo No. ST11191
Composición En
Pureza ≥99,99%, o personalizado
Formulario Objetivo
Forma Tubular
Dimensiones Personalizado

Indium Rotary Target, In Target está diseñado para procesos de deposición por sputtering que utilizan indio de gran pureza. Stanford Advanced Materials (SAM) aplica la fusión por arco en vacío y el análisis de superficies mediante microscopía electrónica de barrido (SEM) para controlar la uniformidad microestructural. El proceso de fabricación hace hincapié en la precisión dimensional y el acabado superficial controlado para favorecer la deposición uniforme de películas finas. SAM integra métodos cuantitativos de control de calidad para verificar parámetros clave y garantizar que el producto cumple criterios técnicos precisos.

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FAQ

¿Cuál es el impacto del diseño rotativo en la uniformidad de la película durante el sputtering?

La configuración giratoria facilita una erosión uniforme en toda la superficie objetivo, lo que ayuda a mantener velocidades de deposición y espesores de película uniformes. Este diseño minimiza el agotamiento localizado y favorece la uniformidad de las propiedades de la película fina en grandes superficies de sustrato.

¿Cómo influyen las dimensiones personalizadas en el proceso de deposición?

Las dimensiones personalizadas permiten que el cátodo se adapte a equipos de sputtering específicos, garantizando una alineación adecuada y una distribución uniforme de la potencia. Esto reduce los efectos de borde y contribuye a la homogeneidad de la película depositada.

¿Qué métodos de control de calidad se aplican para evaluar la integridad de la superficie del objetivo?

SAM emplea el perfilado de superficies mediante microscopía electrónica de barrido (SEM) y metrología dimensional en proceso para comprobar la textura y consistencia de la superficie. Estas técnicas ayudan a identificar irregularidades microestructurales antes de su utilización en sistemas de sputtering.

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