ST11190 Blanco para sputtering planar de indio, en blanco

Cátodos para sputtering planares de indio, In Target Descripción

El cátodo para sputtering planar de indio, In Target, es un cátodo para sputtering a base de indio utilizado en sistemas de deposición por plasma. Está fabricado con indio (In) de alta pureza para minimizar las impurezas durante la formación de la película. Las dimensiones personalizables permiten su integración en diversas cámaras de deposición, garantizando una erosión uniforme del blanco y una uniformidad constante de la película. Su diseño planar mejora la reproducibilidad del proceso en la fabricación de semiconductores y optoelectrónica.

Cátodos para sputtering planares de indio, en Características del cátodo

La información del producto anterior se basa en datos teóricos y es sólo de referencia. Las especificaciones reales pueden variar.

Cátodos para sputtering planares de indio, en aplicaciones de cátodos

Electrónica
- Utilizado como fuente de sputtering en sistemas de deposición de semiconductores para conseguir películas finas uniformes aprovechando sus dimensiones personalizables.
- Aplicado como cátodo en la fabricación de pantallas para mejorar la calidad y homogeneidad de la interfaz de la película.

Industrial
- Sirve como material de electrodo en sensores de película fina para mejorar la consistencia de la señal eléctrica utilizando su indio de alta pureza.
- Se utiliza con frecuencia en la fabricación de células solares para depositar películas conductoras transparentes, aprovechando su diseño planar a medida.

Comercial
- Empleado en procesos de recubrimiento óptico para proporcionar capas de película consistentes, mejorando así el rendimiento del dispositivo mediante tasas de deposición controladas.

Cátodos planares de indio para sputtering, en embalaje de cátodos

El cátodo se embala en un entorno antiestático y libre de polvo utilizando contenedores rígidos sellados para evitar la contaminación y los daños mecánicos. Se incorpora espuma protectora y materiales desecantes para mantener un entorno estable. Para las aplicaciones que requieren condiciones de almacenamiento especiales, se dispone de opciones de envasado personalizadas, como envases sellados al vacío y etiquetado preciso.

Información adicional

El indio es un metal blando y dúctil que desempeña un papel fundamental en la tecnología de deposición de películas finas. Su bajo punto de fusión y alta pureza lo hacen adecuado para contactos eléctricos y revestimientos especializados. El diseño planar de los cátodos para sputtering mejora la uniformidad durante la deposición, lo que resulta vital para las aplicaciones electrónicas y optoelectrónicas avanzadas.

El conocimiento de las características materiales del indio ayuda a optimizar las condiciones de deposición y a conseguir unas propiedades precisas de la película. En entornos industriales y de investigación, la caracterización detallada del comportamiento del material en condiciones de sputtering garantiza que los cátodos funcionen de manera uniforme, lo que facilita la mejora del control del proceso y del rendimiento de los dispositivos.