ST11184 Cátodos para sputtering planares de cobre, indio y galio, cátodos CIG

Cátodos para sputtering planares de cobre, indio y galio, CIG Descripción

El cátodo para sputtering planar de cobre, indio, galio y CIG es un material para sputtering formulado con una aleación precisa de cobre, indio y galio. Las dimensiones personalizables del cátodo facilitan la integración con diversos sistemas de deposición, garantizando la compatibilidad con los equipos de proceso de semiconductores estándar. Su microestructura bien controlada ayuda a conseguir características uniformes de la película y favorece la adhesión y morfología optimizadas de la película para aplicaciones avanzadas de película fina.

Cátodos para sputtering planares de cobre, indio y galio, características de los cátodos CIG

*La información del producto anterior se basa en datos teóricos y es sólo de referencia. Las especificaciones reales pueden variar.

Cátodos para sputtering planares de cobre, indio, galio, CIG Aplicaciones

Electrónica y semiconductores
- Utilizado como fuente de sputtering en sistemas de deposición de semiconductores para conseguir recubrimientos uniformes de película fina aprovechando las dimensiones personalizables.
- Aplicado como fuente de material en la producción de células fotovoltaicas para regular la morfología de la película mediante el control de la composición de la aleación.

Microfabricación industrial
- Sirve como blanco de deposición en procesos de microfabricación de interconexiones de circuitos integrados para mejorar la uniformidad de la película utilizando un control preciso de la composición.
- Se utiliza con frecuencia en procesos de revestimiento de embalajes electrónicos, donde las dimensiones a medida mejoran la calidad de la película y el rendimiento del dispositivo.

Cátodos para sputtering planares de cobre, indio y galio, empaquetado de cátodos CIG

El cátodo para sputtering planar de cobre, indio y galio se presenta en un contenedor antiestático revestido de espuma para protegerlo de los impactos mecánicos y de la contaminación por partículas. El cátodo está sellado en un embalaje de atmósfera inerte para limitar la exposición a la humedad y a los contaminantes transportados por el aire. Se aconseja almacenar el blanco en un entorno controlado con temperatura y humedad estables. Existen opciones de embalaje personalizadas para satisfacer las necesidades específicas de manipulación y transporte.

Información adicional

Los cátodos para sputtering son fundamentales en la deposición avanzada de películas finas, ya que influyen en las propiedades de las películas y en el rendimiento de los dispositivos. Las propiedades del material, como la composición, la densidad y la morfología de la superficie, desempeñan un papel esencial en la determinación del rendimiento del sputtering y la uniformidad de la película. El ajuste de estos parámetros puede optimizar el proceso de deposición para aplicaciones específicas de semiconductores y fotovoltaicas.

Comprender la interacción entre la composición de la aleación y los parámetros de deposición es vital en la ciencia de los materiales. La investigación sigue centrándose en el perfeccionamiento de las técnicas de sputtering para lograr un grosor de película y un control microestructural uniformes en diversas aplicaciones industriales, impulsando mejoras tanto en el rendimiento como en la eficiencia de la fabricación.