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Stanford Advanced Materials
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ST11183 Blanco giratorio de cobre y galio, blanco CuGa

Catálogo No. ST11183
Composición Cu, Ga
Pureza ≥99,99%, o personalizado
Formulario Objetivo
Forma Tubular
Dimensiones Personalizado

El cátodo rotativo de cobre-galio, CuGa Target, se produce utilizando una aleación de cobre-galio con una composición cuidadosamente controlada para aplicaciones de sputtering. Stanford Advanced Materials (SAM) emplea técnicas avanzadas de fundición y forja rotativa combinadas con evaluaciones cuantitativas espectroscópicas y de imagen para verificar la uniformidad de la composición y la integridad de la superficie. El proceso de control de calidad se basa en análisis rutinarios de microscopía electrónica de barrido, lo que garantiza la consistencia del material. Estas metodologías apoyan un comportamiento preciso de la erosión del objetivo y unas condiciones de plasma estables durante los procedimientos de deposición.

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FAQ

¿Cómo afecta la composición de la aleación cobre-galio al rendimiento de la deposición por sputtering?

La composición controlada de la aleación ayuda a mantener velocidades de erosión constantes y una distribución uniforme del plasma durante la deposición. Esta uniformidad es crucial para conseguir un espesor uniforme de la película en aplicaciones de sputtering.

¿Qué métodos de control de calidad se utilizan durante la fabricación de este objetivo?

El proceso de fabricación incluye análisis espectroscópicos y microscopía electrónica de barrido para garantizar la uniformidad de la aleación y la calidad de la superficie. Estas técnicas controlan la precisión de la composición y la microestructura para garantizar un rendimiento estable del sputtering.

¿Es posible personalizar las dimensiones del cátodo para sistemas de sputtering específicos?

Sí, el cátodo está disponible en dimensiones personalizadas para adaptarse a los requisitos específicos de la cámara de deposición por pulverización catódica, lo que garantiza una integración y una eficacia de deposición adecuadas.

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