ST11182 Blanco giratorio de cobre y aluminio, blanco CuAl

Blanco rotativo de cobre-aluminio, blanco CuAl Descripción

El cátodo rotativo de cobre-aluminio, CuAl Target, es un cátodo para sputtering fabricado a partir de una aleación de cobre-aluminio configurada en un diseño rotativo. Sus dimensiones personalizadas garantizan la compatibilidad con una amplia gama de equipos de pulverización catódica. El movimiento rotatorio del cátodo minimiza las anomalías de erosión y mejora la deposición uniforme de la película fina. Desarrollado mediante un control metalúrgico preciso, el producto cumple los requisitos técnicos en aplicaciones que requieren una deposición uniforme y estabilidad del proceso.

Cátodos rotativos de cobre-aluminio, Características de los cátodos CuAl

*La información del producto anterior se basa en datos teóricos y es sólo de referencia. Las especificaciones reales pueden variar.

Blanco rotativo de cobre y aluminio, Aplicaciones del blanco CuAl

Electrónica
- Utilizar como cátodo para sputtering en sistemas de deposición de semiconductores para conseguir recubrimientos uniformes de película fina aprovechando el diseño rotativo y la composición controlada de la aleación.

Recubrimientos industriales
- Aplicado como componente activo en sistemas de deposición física de vapor (PVD) para proporcionar características de película consistentes y repetibles, resolviendo problemas de desgaste localizado y asegurando un espesor de capa uniforme.

Fabricación de pantallas
- Sirve como material de partida en la producción de paneles de visualización para aumentar la uniformidad de la capa y mejorar el control general del proceso durante la deposición al vacío.

Cátodos rotativos de cobre y aluminio, embalaje de cátodos CuAl

El cátodo se embala en un envoltorio anti-contaminación libre de estática y se amortigua con inserciones de espuma inerte para evitar golpes mecánicos. Está sellado en contenedores resistentes a la humedad y con bajo nivel de partículas, lo que garantiza un transporte seguro y un almacenamiento a largo plazo. Las opciones de envasado pueden personalizarse para incluir etiquetado adicional y compartimentación para requisitos específicos de manipulación y proceso.

Información adicional

El uso de cátodos para sputtering como el cátodo rotativo de cobre-aluminio, CuAl Target, forma parte integral de los procesos de deposición de películas finas en electrónica y aplicaciones industriales. Estos cátodos deben cumplir estrictas especificaciones de composición y mecánicas para lograr propiedades uniformes de la película durante la deposición en vacío. La caracterización metalúrgica detallada y la supervisión del proceso en tiempo real son elementos esenciales para gestionar la calidad y el rendimiento del material.

Los avances en la ciencia de los materiales han conducido al desarrollo de cátodos para sputtering especializados diseñados para el procesamiento de grandes volúmenes y la uniformidad. La comprensión de la interacción entre la composición de la aleación, la mecánica rotacional y la dinámica de deposición ayuda a optimizar la integración del sistema y la eficacia general del proceso para diversas aplicaciones industriales.