ST11180 Blanco planar de cromo, blanco de Cr

Chromium Planar Target, Cr Target Descripción

El cátodo planar de cromo, Cr Target, es una fuente para sputtering hecha de metal de cromo de alta pureza. Está diseñado para su uso en procesos de deposición física de vapor para formar películas finas uniformes. La configuración planar permite una salida de material consistente y un control preciso del espesor de la película. Sus dimensiones personalizadas permiten la compatibilidad con equipos de sputtering estándar, manteniendo al mismo tiempo una superficie de deposición lisa y una composición de elementos estable, crítica para aplicaciones de semiconductores y recubrimientos ópticos.

Blanco planar de cromo, Cr Características del blanco

*La información del producto anterior se basa en datos teóricos y es sólo de referencia. Las especificaciones reales pueden variar.

Blanco planar de cromo, blanco de Cr Aplicaciones

Electrónica y fabricación de semiconductores
- Utilizado como fuente de metal en sistemas de sputtering para formar capas conductoras en circuitos integrados aprovechando la composición consistente del cátodo.
- Aplicado como material de deposición en la producción de pantallas planas para lograr una cobertura uniforme de la película y reducir la interferencia de partículas.

Recubrimientos de superficies industriales
- Sirve como elemento de revestimiento en componentes mecánicos para proporcionar una capa metálica protectora utilizando sus propiedades de material estable.
- Se utiliza como fuente en sistemas de revestimiento decorativo para producir películas de cromo uniformes y adherentes en productos de consumo.

Blanco planar de cromo, Cr Embalaje del blanco

El blanco se embala en un ambiente limpio y libre de estática utilizando un envoltorio anti-contaminación. Se sella en contenedores resistentes a la humedad, hechos a medida, con un acolchado protector que minimiza los daños por manipulación. Las instrucciones de almacenamiento hacen hincapié en un entorno de temperatura controlada y una exposición mínima al polvo o a partículas en suspensión en el aire. Existen opciones de envasado personalizadas, incluidas unidades etiquetadas y compartimentadas, para satisfacer requisitos logísticos específicos.

Información adicional

Los cátodos para sputtering a base de cromo se utilizan desde hace mucho tiempo en entornos que requieren una deposición controlada de películas finas. Las propiedades de sus materiales, que incluyen un punto de fusión elevado y una resistividad eléctrica moderada, los hacen adecuados para aplicaciones en las que la estabilidad térmica y mecánica son esenciales.

La comprensión de las condiciones de procesamiento y la morfología del objetivo desempeña un papel importante en el rendimiento general de los sistemas de deposición física de vapor. La investigación continua en ciencia de materiales ayuda a perfeccionar estos cátodos para responder a los retos de la ingeniería avanzada tanto en la fabricación de semiconductores como en los procesos de recubrimiento industrial.