ST11176 Cobalto Blanco Planar, Co Blanco

Cobalto Planar Target, Co Target Descripción

El cátodo planar de cobalto se fabrica a partir de cobalto elemental (Co) con dimensiones personalizadas para satisfacer los diversos requisitos de los sistemas de sputtering. El cátodo está diseñado para promover una distribución uniforme del plasma y una deposición consistente de la película. Su composición química controlada y sus propiedades físicas minimizan la generación de partículas durante el sputtering, garantizando la consistencia del rendimiento en aplicaciones de procesamiento de semiconductores y revestimientos.

Blanco planar de cobalto, Co Características del blanco

La información del producto anterior se basa en datos teóricos y es sólo para referencia. Las especificaciones reales pueden variar.

Cobalto Planar Target, Co Target Aplicaciones

1.Electrónica
- Utilizado como blanco de pulverización catódica en la deposición de semiconductores para lograr una formación de película uniforme mediante el aprovechamiento de la composición controlada de cobalto.
- Aplicado en la fabricación de dispositivos de almacenamiento magnético para lograr propiedades magnéticas consistentes a través del control preciso del espesor del recubrimiento.

2.Industrial
- Empleado en sistemas de recubrimiento de capas resistentes al desgaste para mejorar la durabilidad de la superficie utilizando el alto punto de fusión del cobalto.
- Se emplea como componente en filtros de película fina para sistemas ópticos con el fin de lograr un control preciso de la densidad y mejorar el rendimiento.

3.Automoción
- Utilizado en la deposición de revestimientos decorativos sobre componentes interiores para garantizar un aspecto y una adherencia uniformes mediante el uso de una composición objetivo consistente.

Blanco planar de cobalto, embalaje del blanco de cobalto

El cátodo se embala con materiales antiestáticos y resistentes a la humedad y se coloca en un contenedor rígido que absorbe los golpes. La lámina protectora y los insertos de espuma evitan la contaminación por partículas y los daños mecánicos. El envase está diseñado para su almacenamiento en un entorno controlado, garantizando que no se produzcan alteraciones en las propiedades del material. Se pueden solicitar opciones de envasado personalizadas, como etiquetado y envases compartimentados.

Información adicional

Los cátodos para sputtering de cobalto desempeñan un papel fundamental en las tecnologías de deposición de películas finas utilizadas en microelectrónica e ingeniería de superficies. El procesamiento controlado del cobalto en cátodos planares es esencial para mantener un entorno de plasma estable durante el sputtering, que es fundamental para lograr una uniformidad de película de alta calidad.

Los avances en la ciencia de los materiales y las tecnologías de mecanizado de precisión han permitido producir cátodos con estrictas tolerancias de composición y dimensiones. Estas mejoras facilitan un mayor rendimiento en aplicaciones que exigen gran precisión y eficacia, contribuyendo al éxito operativo en los sectores de semiconductores, industrial y automovilístico.