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  • ST11176 Cobalto Blanco Planar, Co Blanco

    • ST11176 Cobalto Blanco Planar, Co Blanco

    Catálogo No. ST11176
    Composición Co
    Pureza ≥99,99%, o personalizado
    Formulario Objetivo
    Forma Rectangular
    Dimensiones Personalizado

    El blanco planar de cobalto, Co Target, es un blanco para sputtering fabricado a partir de cobalto de gran pureza, diseñado para la deposición controlada de películas finas. Stanford Advanced Materials (SAM) aplica una rigurosa caracterización del material mediante técnicas como la microscopía óptica y la fluorescencia de rayos X para controlar la uniformidad de la composición. El control de procesos de SAM minimiza las impurezas y los defectos, garantizando que el producto cumpla las estrictas normas técnicas para aplicaciones de sputtering.

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    Cobalt Planar Target, Co Target
    Cobalt Planar Target, Co Target
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    Este artículo
    ST11176 Cobalto Blanco Planar, Co Blanco
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    Composición
    Co
    Pureza
    ≥99,99%, o personalizado
    Formulario
    Objetivo
    Forma
    Rectangular
    Dimensiones
    Personalizado
     
    NN0247 Nano Cobalto en polvo (Co) (nº CAS 7440-48-4)
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    Número CAS
    7440-48-4
    Fórmula química
    Co
    APS
    50-300 nm
    Formulario
    Pólvora negra
    Pureza
    99.9%
     
    CP0248 Microcobalto en polvo (Co) (nº CAS 7440-48-4)
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    Número CAS
    7440-48-4
    Fórmula química
    Co
    Formulario
    Pólvora negra
    Pureza
    ≥99,9 %
    Tamaño de las partículas
    - Malla de 200, malla de 325 o a medida
    Sinónimos
    Polvo de cobalto microfino, polvo de Co de micras
     
    CT0985 Lámina de cobalto (Co Foil)
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    Número CAS
    7440-48-4
    Densidad aparente
    8.71 g/cm3
    Punto de fusión
    1768.15 K
    Espesor
    >=0,03 mm
    Pureza
    99.98%

    FAQ

    ¿Cómo afecta la dimensión personalizada al proceso de sputtering?

    Las dimensiones personalizadas permiten adaptar el blanco a sistemas de deposición específicos, optimizando la uniformidad de la película y reduciendo los efectos de borde. Los usuarios se benefician de un mayor control sobre el espesor del revestimiento y la uniformidad de la microestructura en distintas configuraciones de sputtering.

    ¿Qué medidas de control de calidad se aplican durante la producción?

    SAM emplea la caracterización analítica, incluidos la fluorescencia de rayos X y el análisis morfológico de la superficie, para evaluar la composición de la aleación y el acabado de la superficie. Este proceso reduce la incidencia de impurezas, garantizando la consistencia entre lotes y un rendimiento fiable en aplicaciones de sputtering.

    ¿Cómo se aprovecha la propiedad inherente del cobalto como material en la deposición de películas finas?

    El alto punto de fusión y la densidad controlada del cobalto contribuyen a unas condiciones de plasma estables durante el sputtering. Esta estabilidad ayuda a conseguir una deposición uniforme de la película con una contaminación mínima de partículas, lo que es fundamental para las aplicaciones de semiconductores y revestimientos. Si desea más información, póngase en contacto con nosotros.

    ÚLTIMAS RECOMENDACIONES

    sc/1749821230-NN0247.jpg
    NN0247 Nano Cobalto en polvo (Co) (nº CAS 7440-48-4)
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    Micro Cobalt Powder
    CP0248 Microcobalto en polvo (Co) (nº CAS 7440-48-4)
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    CT0985 Cobalt Foil (Co Foil)
    CT0985 Lámina de cobalto (Co Foil)
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    Cobalt Wire (Co Wire)
    CT0986 Alambre de cobalto (Co Wire)
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    CT0988.jpg
    CT0988 Hoja de cobalto (Hoja de Co)
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    Cobalt Powder for Diamond Tools
    DP2774 Cobalto Co Polvo para herramientas diamantadas
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    Spherical Cobalt Powder
    CO4308 Cobalto esférico Co Polvo
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    (Discontinued) Cobalt Honeycomb
    CO6124 Cobalt Honeycomb
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