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ST11171 Blanco rotativo de aluminio, estaño y cobre, blanco AlSnCu

Catálogo No. ST11171
Composición Al, Sn, Cu
Pureza ≥99.9%
Formulario Objetivo
Forma Tubular
Dimensiones Personalizado

Los cátodos rotativos de aluminio, estaño y cobre AlSnCu se fabrican con un estricto control de sus elementos de aleación para conseguir un rendimiento uniforme del sputtering. Stanford Advanced Materials (SAM) emplea análisis químicos cuantitativos y evaluaciones metalográficas para controlar la precisión de la composición. El cátodo se procesa utilizando métodos de recocido calibrados e inspecciones dimensionales, garantizando que cada lote cumpla las tolerancias industriales establecidas para la consistencia y el rendimiento en aplicaciones de sputtering.

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FAQ

¿Cómo afecta la composición de la aleación del cátodo rotatorio de aluminio, estaño y cobre al rendimiento del sputtering?

La composición de la aleación del cátodo influye directamente en la uniformidad de la película y en la velocidad de deposición. Las relaciones de aleación controladas ayudan a estabilizar el proceso de sputtering, garantizando una erosión y deposición uniformes. Este control preciso minimiza las variaciones en las propiedades de la película, lo que resulta esencial para las aplicaciones de semiconductores y revestimientos.

¿Cuáles son las condiciones de funcionamiento recomendadas para lograr una deposición óptima de la película con este objetivo?

El rendimiento óptimo se consigue manteniendo un entorno de plasma estable y controlando la distancia entre el objetivo y el sustrato. La temperatura y la presión deben vigilarse estrechamente. Unas condiciones de funcionamiento constantes mejoran la uniformidad de la película y la velocidad de deposición, al tiempo que reducen la degradación del blanco durante el proceso de sputtering.

¿Cómo influye la uniformidad microestructural en la erosión del blanco durante el sputtering?

La microestructura uniforme minimiza las variaciones locales en los índices de erosión, lo que se traduce en un rendimiento constante del sputtering. El procesamiento controlado de la aleación reduce los puntos calientes y mejora la fiabilidad de la deposición de la película. El análisis periódico de las características microestructurales ayuda a ajustar los parámetros del proceso para mitigar el desgaste irregular.

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