ST11168 Cátodos para sputtering planares de óxido de aluminio, Al2O3

Cátodos de óxido de aluminio para sputtering, Al2O3 Descripción

El cátodo planar de óxido de aluminio para sputtering, Al2O3, está compuesto de alúmina de alta pureza (Al2O3) formulada para aplicaciones de sputtering. Su diseño planar garantiza la compatibilidad con los sistemas de deposición estándar al mantener una distancia uniforme entre el cátodo y el sustrato. Esta geometría minimiza los efectos de borde durante el sputtering, favoreciendo el crecimiento uniforme de la película y reduciendo la contaminación por partículas. El riguroso control de la composición del cátodo favorece un comportamiento estable del sputtering y unas propiedades reproducibles de la película fina, lo que resulta beneficioso para los procesos de semiconductores y componentes ópticos.

Cátodos para sputtering planares de óxido de aluminio, Al2O3 Características del cátodo

*La información del producto anterior se basa en datos teóricos y es sólo de referencia. Las especificaciones reales pueden variar.

Cátodos para sputtering planares de óxido de aluminio, Al2O3 Aplicaciones de los cátodos

Electrónica
- Utilizado como blanco de deposición en sistemas de sputtering para conseguir películas finas uniformes para dispositivos semiconductores aprovechando la composición de alúmina de alta pureza del blanco.
- Aplicado como fuente de recubrimiento en la fabricación de pantallas ópticas para controlar el grosor y la calidad de la película, garantizando defectos mínimos en las partículas.

Industrial
- Utilizado como cátodo para sputtering en la fabricación de revestimientos protectores para dispositivos de pantalla plana, aprovechando su geometría plana para una distribución uniforme del material.
- Integrado en la producción de capas dieléctricas en aplicaciones de sensores para lograr un entorno de deposición estable y reproducible.

Cátodos planares de óxido de aluminio para sputtering, Al2O3 Embalaje del cátodo

El cátodo se embala de forma segura en contenedores de espuma antiestática con amortiguación de gas inerte para evitar daños y contaminación. Se almacena a temperatura ambiente en instalaciones limpias y secas para preservar la integridad de la superficie. Se dispone de soluciones de embalaje personalizadas, incluidas bolsas selladas al vacío y cajas compartimentadas, según los requisitos específicos de manipulación y las condiciones de envío.

Información adicional

El sputtering es una técnica de deposición física de vapor ampliamente adoptada en la que los cátodos como el óxido de aluminio son esenciales para crear películas finas y uniformes. La geometría plana del cátodo permite una distribución eficaz de la energía durante la pulverización catódica, que es fundamental para aplicaciones de alta precisión en la fabricación de semiconductores y dispositivos ópticos. Mantener una alta pureza y unas propiedades superficiales controladas es imprescindible para la reproducibilidad del proceso.

El óxido de aluminio, también conocido como alúmina, presenta una excelente inercia química y resistencia mecánica, lo que lo convierte en el material preferido para diversas aplicaciones cerámicas. El conocimiento de sus propiedades térmicas y dieléctricas ayuda a los ingenieros a optimizar los procesos de deposición y a garantizar que el rendimiento de los dispositivos cumpla las rigurosas normas industriales.

Caso

Lente de máquina litográfica ASML

Sistema de revestimiento antirreflectante de 193 nm

Sustrato: Cuarzo sintético | Temperatura de deposición: 150°C

Verificación del rendimiento:

Pérdida de reflectancia en una sola cara < 0,08%.

Distorsión de frente de onda < λ/40 @ 193nm

Plan de proceso: Deposición asistida por haz de iones (IAD) para la optimización de la densidad