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  • ST11168 Cátodos para sputtering planares de óxido de aluminio, Al2O3

    • ST11168 Cátodos para sputtering planares de óxido de aluminio, Al2O3

    Catálogo No. ST11168
    Composición Al2O3
    Pureza ≥99.99%
    Formulario Objetivo
    Forma Rectangular
    Dimensiones Personalizado

    El cátodo para sputtering planar de óxido de aluminio Al2O3 se fabrica con alúmina de gran pureza procesada en condiciones controladas. Stanford Advanced Materials (SAM) emplea protocolos de inspección detallados, que incluyen difracción de rayos X y perfilometría de superficie, para verificar la planitud y la pureza. El proceso de producción controla estrictamente la consistencia de la composición y la integridad microestructural, garantizando que el cátodo cumpla los estrictos requisitos de las aplicaciones de sputtering.

    CONSULTA
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    Aluminum Oxide Planar Sputtering Target, Al2O3 Target
    Aluminum Oxide Planar Sputtering Target, Al2O3 Target
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    ST11168 Cátodos para sputtering planares de óxido de aluminio, Al2O3
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    Composición
    Al2O3
    Pureza
    ≥99.99%
    Formulario
    Objetivo
    Forma
    Rectangular
    Dimensiones
    Personalizado
     
    AC0915 Tubo de alúmina
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    Dimensiones
    Personalizado
    Material
    Al₂O₃
    Pureza
    ≥95 %, o a medida
    Densidad
    3,7–3,9 g/cm³
    Máx. Temperatura de trabajo
    Hasta 1650 °C (dependiendo de la pureza)
    Diámetro
    1 – 100 mm (a medida)
    Sinónimos
    Tubo de Al₂O₃, tubo de óxido de aluminio
     
    NR0916 Sustratos de nitruro de aluminio (AlN)
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    Material
    AlN, nitruro de aluminio
    Densidad
    3,26 g/cm³
    Apariencia
    Blanco, gris claro
    Forma
    Sustrato
    Punto de fusión
    >2200 °C
    Sinónimos
    Sustratos de nitruro de aluminio, sustratos de AlN
     
    AC0917 Alúmina (Al2O3) Varilla
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    Pureza
    ≥95 %, o a medida
    Densidad
    3,7-3,9 g/cm³
    Punto de fusión
    2.072 °C
    Dureza
    Mohs 9
    Número CAS
    1344-28-1
    Almacenamiento
    Resistente a la humedad

    FAQ

    ¿Cómo afecta la configuración planar a la uniformidad de la película en aplicaciones de sputtering?

    La configuración plana mejora la uniformidad de la película al mantener una distancia constante entre el objetivo y el sustrato. Esto minimiza las variaciones en la velocidad de deposición, lo que resulta crucial a la hora de aplicar revestimientos en la fabricación de semiconductores y dispositivos ópticos.

    ¿Qué métodos de control de calidad se aplican al blanco de óxido de aluminio?

    El cátodo se somete a una inspección dimensional mediante perfilometría láser y a un análisis de composición por fluorescencia de rayos X. Estos métodos garantizan que la microestructura y la composición química cumplen los estrictos requisitos de las aplicaciones de sputtering. Estos métodos garantizan que la microestructura y la composición química cumplen los estrictos requisitos de las aplicaciones de sputtering. Si desea más información, póngase en contacto con nosotros.

    ¿Pueden adaptarse las dimensiones del cátodo para sputtering a equipos específicos?

    Sí, las dimensiones son personalizables para adaptarse a diversos sistemas de sputtering. La personalización garantiza una integración adecuada con su equipo de deposición, optimizando así la eficiencia del proceso y la consistencia de la deposición de la película.

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