ST11167 Blanco giratorio de aluminio, blanco Al

Cátodos rotativos de aluminio, Cátodos Al Descripción

El blanco rotativo de aluminio, Al Target, se produce utilizando aluminio de alta pureza destinado a sistemas de deposición por sputtering. El diseño rotativo del cátodo facilita la erosión uniforme y la utilización del material durante el proceso de sputtering. Sus dimensiones personalizadas garantizan la compatibilidad con diversas cámaras de deposición, optimizando la uniformidad de la capa fina. Las propiedades del material, que incluyen una estructura de grano controlada y un punto de fusión definido, favorecen un rendimiento estable en procesos que exigen una vaporización precisa del metal.

Blanco rotativo de aluminio, Características del blanco de Al

La información del producto anterior se basa en datos teóricos y es sólo de referencia. Las especificaciones reales pueden variar.

Blanco rotativo de aluminio, blanco de Al Aplicaciones

Electrónica y procesamiento de semiconductores
- Utilizado como cátodo para sputtering en la deposición de semiconductores para conseguir recubrimientos uniformes de capa fina aprovechando la composición controlada del material.
- Aplicado como fuente metálica en sistemas PVD para depositar capas conductoras, ayudando en el desarrollo de circuitos microelectrónicos.

Recubrimiento industrial y tratamiento de superficies
- Se emplea como componente de revestimiento en sistemas de tratamiento de superficies para mejorar la adherencia y la uniformidad de la película utilizando su diseño giratorio que mejora la distribución del material.
- Sirve como base para revestimientos decorativos y protectores en componentes industriales, asegurando la consistencia de la película mediante la personalización dimensional a medida.

Objetivo rotativo de aluminio, Al Target Embalaje

El Aluminum Rotary Target, Al Target se embala utilizando materiales resistentes a la humedad y antiestáticos. Se asegura en contenedores sellados forrados de espuma para mitigar el impacto mecánico y la contaminación. Se recomienda el almacenamiento en un entorno controlado y de baja humedad para minimizar la oxidación. El diseño del envase facilita la personalización según el tamaño del objetivo y los requisitos de envío. Cada envase está claramente etiquetado para garantizar su correcta manipulación y trazabilidad durante el transporte.

Información adicional

Los cátodos para sputtering de aluminio desempeñan un papel fundamental en los sistemas de deposición física de vapor, proporcionando la materia prima para la formación de películas finas en diversas industrias. Las propiedades del aluminio, como su punto de fusión definido y su densidad consistente, repercuten directamente en la eficacia de los procesos de deposición, afectando a la calidad y uniformidad de las películas resultantes.

Comprender los aspectos metalúrgicos del aluminio, incluido su comportamiento de refinamiento del grano y su estabilidad composicional, es esencial para optimizar las aplicaciones de sputtering. Los avances científicos en la caracterización de materiales siguen mejorando la fiabilidad de los cátodos de aluminio, lo que favorece su uso en entornos de fabricación cada vez más sofisticados.