CY9470 Sustrato de níquel monocristalino Sustrato de Ni (110), 10x10x0,5 mm, SSP

Sustrato monocristalino de níquel Sustrato Ni (110), 10x10x0,5 mm, SSP Descripción

El sustrato monocristalino de níquel Ni Substrate (110), 10x10x0,5 mm, SSP proporciona una estructura monocristalina de níquel bien definida con una orientación (110), lo que garantiza una red uniforme esencial para el crecimiento epitaxial. Las dimensiones del sustrato, de 10 mm por 10 mm y 0,5 mm de grosor, permiten una integración perfecta con los equipos de procesamiento estándar. Su mínima densidad de defectos y su acabado superficial uniforme lo hacen idóneo para aplicaciones de investigación de materiales avanzados y procesamiento de semiconductores.

Sustrato de níquel monocristalino Sustrato de Ni (110), 10x10x0,5 mm, aplicaciones SSP

Electrónica y procesamiento de semiconductores
- Utilizado como sustrato en sistemas de deposición de película fina para conseguir capas epitaxiales uniformes aprovechando su precisa orientación (110).
- Aplicado como barrera de difusión en circuitos integrados para mejorar el rendimiento de los dispositivos mediante estructuras de grano consistentes.

Investigación de materiales y análisis de laboratorio
- Sirve como patrón de calibración en experimentos cristalográficos para validar técnicas de deposición y tratamientos superficiales aprovechando su baja densidad de defectos.

Sustrato monocristalino de níquel Sustrato de níquel (110), 10x10x0,5 mm, embalaje SSP

El sustrato se sujeta individualmente en una bolsa antiestática y un contenedor acolchado para evitar daños mecánicos y contaminación. Se almacena en un entorno seco, con temperatura controlada y baja humedad para mantener las condiciones precisas de su superficie. Existen opciones de embalaje personalizadas, como inserciones de espuma y etiquetado adicionales, para adaptarse a protocolos específicos de manipulación y almacenamiento.

Preguntas más frecuentes

P1: ¿Cómo beneficia la orientación (110) a los procesos de crecimiento epitaxial?
R1: La orientación (110) ofrece una plantilla cristalina uniforme que facilita el crecimiento uniforme de la capa epitaxial, reduciendo los defectos de la película y mejorando la adherencia, algo fundamental en la fabricación de semiconductores.

P2: ¿Qué métodos de control de calidad se utilizan para garantizar la precisión del sustrato?
A2: SAM emplea difracción de rayos X para verificar la alineación cristalográfica y microscopía de fuerza atómica para evaluar la rugosidad de la superficie, garantizando que el sustrato se adhiere a estrictas tolerancias dimensionales y de densidad de defectos.

P3: ¿Se puede personalizar el sustrato para satisfacer requisitos de investigación específicos?
R3: Sí, se pueden realizar ajustes en las dimensiones o tratamientos superficiales adicionales mediante consultas técnicas, lo que permite adaptarlo a configuraciones experimentales especializadas.

Información adicional

Los sustratos de níquel desempeñan un papel importante en la ciencia de materiales debido a su capacidad para soportar el crecimiento de películas epitaxiales de alta calidad. La precisión cristalográfica de estos sustratos influye directamente en el rendimiento y la reproducibilidad de los dispositivos de película fina. La investigación en este campo suele centrarse en comprender cómo las propiedades del sustrato, como la orientación del grano y la uniformidad de la superficie, afectan a la eficiencia general del proceso.

La aplicación de sustratos de níquel monocristalino se extiende a diversas técnicas experimentales en ingeniería de semiconductores y materiales. El entorno controlado durante la producción y la posterior verificación de la calidad garantizan que estos sustratos proporcionen una plataforma fiable para la investigación avanzada, contribuyendo a mejorar los procesos de deposición y el rendimiento de los dispositivos.