CY9463 Sustrato de níquel policristalino Sustrato de Ni 10 x 10 x 0,5 mm, SSP

Sustrato policristalino de níquel Sustrato de Ni 10 x 10 x 0,5 mm, SSP Descripción

El sustrato de níquel policristalino Ni 10 x 10 x 0,5 mm, SSP está fabricado con níquel policristalino de gran pureza. Las dimensiones del sustrato (10 x 10 mm con un grosor de 0,5 mm) facilitan la compatibilidad con equipos de procesamiento estándar. Su microestructura uniforme minimiza las incoherencias en los límites de grano, lo que favorece la deposición de películas finas y la microfabricación. Este sustrato controlado ayuda a obtener resultados repetibles en el montaje de dispositivos semiconductores y en la investigación fotovoltaica.

Sustrato policristalino de níquel Sustrato de Ni 10 x 10 x 0,5 mm, SSP Aplicaciones

1.Electrónica
- Utilizado como sustrato de deposición en dispositivos semiconductores para conseguir una formación uniforme de película fina aprovechando la microestructura controlada.
- Se aplica como capa base en circuitos integrados para lograr un patrón preciso y un grabado de alta resolución gracias a su tolerancia dimensional constante.

2.Fotovoltaica
- Sirve como sustrato de soporte en el montaje de células solares para lograr una eficiente recogida de carga aprovechando su estructura de grano uniforme.

3.Investigación y pruebas industriales
- Se utiliza como material estándar en la investigación de materiales para evaluar los procesos de deposición de películas basadas en níquel aprovechando su acabado superficial controlado.

Sustrato policristalino de níquel Sustrato de Ni 10 x 10 x 0,5 mm, embalaje SSP

Cada sustrato se embala individualmente en una bolsa antiestática y antiarañazos y se coloca en un contenedor acolchado para mitigar la tensión mecánica durante la manipulación. Las condiciones de almacenamiento requieren un entorno seco y a temperatura estable para evitar la oxidación y preservar la integridad microestructural. Existen opciones de envasado personalizadas, incluido el etiquetado de lotes y los insertos anticontaminación, para satisfacer requisitos específicos de laboratorio o fabricación.

Preguntas más frecuentes

P1: ¿Cómo afecta la estructura policristalina a la deposición de películas finas?
R1: La estructura policristalina uniforme minimiza las variaciones durante el crecimiento de la película fina, lo que favorece una adhesión uniforme de las capas y una mayor reproducibilidad de los dispositivos en aplicaciones de semiconductores.

P2: ¿Qué medidas de control de calidad verifican las tolerancias dimensionales del sustrato?
A2: El sustrato se somete a una inspección por microscopía electrónica y a una metrología de precisión para evaluar la uniformidad del grano y la exactitud dimensional, lo que garantiza su idoneidad para entornos de procesamiento de alta precisión.

P3: ¿Se puede personalizar el grosor del sustrato?
A3: Sí, aunque el grosor estándar es de 0,5 mm, los pedidos personalizados pueden ajustar el grosor del sustrato según las necesidades experimentales, con protocolos de garantía de calidad equivalentes mantenidos en la producción.

Información adicional

Los sustratos de níquel policristalino son fundamentales en la fabricación de dispositivos electrónicos, donde la microestructura controlada desempeña un papel crítico en el rendimiento de las películas depositadas. Las propiedades materiales del níquel, como su resistencia a la corrosión y su comportamiento eléctrico estable, contribuyen a su uso generalizado en la investigación de semiconductores y en aplicaciones industriales.

Los avances en el procesamiento metalúrgico han permitido controlar con precisión la estructura de grano de estos sustratos. Esto, a su vez, facilita una mayor reproducibilidad de los resultados experimentales y favorece el desarrollo de técnicas innovadoras de deposición de películas finas, que son fundamentales tanto en la investigación académica como en los entornos de fabricación industrial.