CY9457 Sustratos de cobre monocristalino Sustrato de Cu (111), 10x10x0,5 mm, SSP

Sustratos de cobre monocristalino Sustrato de Cu (111), 10x10x0,5 mm, SSP Descripción

El producto se fabrica a partir de cobre de gran pureza con una orientación cristalográfica (111), lo que garantiza una estructura reticular uniforme en toda la superficie de 10x10 mm. El sustrato mide 0,5 mm de espesor, optimizado para la investigación de semiconductores y ciencias de los materiales. Las propiedades cristalinas controladas reducen la variabilidad de los límites de grano, lo que ayuda en las aplicaciones analíticas y de deposición. Empleando rigurosos métodos de caracterización de superficies, SAM confirma la planitud y homogeneidad esenciales para integraciones de procesos sensibles.

Sustratos de cobre monocristalino Sustrato de Cu (111), 10x10x0,5 mm, SSP Aplicaciones

1.Electrónica
- Utilizado como base para el crecimiento epitaxial en dispositivos semiconductores para minimizar los desajustes de red aprovechando la orientación uniforme (111).
- Aplicado como sustrato en pruebas de interconexión microelectrónica para lograr una conductividad estable mediante una estructura cristalina controlada.

2.Investigación en ciencia de materiales
- Sirve como soporte de muestras en sistemas de deposición de películas finas para asegurar una cristalografía consistente que mejore la adhesión de la película.
- Se utiliza con frecuencia en estudios de análisis de superficies para evaluar el impacto de la disposición atómica en las propiedades del material aprovechando su estructura homogénea.

Sustratos de cobre monocristalino Sustrato de Cu (111), 10x10x0,5 mm, embalaje SSP

Los sustratos se envasan en bolsas antiestáticas con protección contra la humedad e insertos de espuma para evitar los golpes mecánicos y la contaminación ambiental. Las instrucciones de almacenamiento recomiendan un entorno seco y a temperatura controlada. Según las necesidades del usuario, se ofrecen capas protectoras adicionales y embalajes compartimentados personalizados para proteger el sustrato durante el transporte y el almacenamiento a largo plazo.

Preguntas más frecuentes

P1: ¿Cómo influye la orientación (111) en el rendimiento del sustrato de cobre?
R1: La orientación (111) produce una disposición atómica consistente, que minimiza los defectos durante la deposición de la capa fina, favoreciendo así el crecimiento uniforme de la capa y la mejora del rendimiento electrónico en los equipos de procesamiento.

P2: ¿Qué medidas de control de calidad se aplican durante la producción?
A2: SAM emplea la inspección microscópica directa de la superficie y el análisis de difracción de rayos X para verificar la orientación de los cristales y la consistencia estructural. Esta metodología garantiza que cada sustrato cumpla los criterios especificados (111) de alineación y planitud de la superficie.

P3: ¿Puede integrarse este sustrato en los flujos de trabajo de procesamiento de semiconductores existentes?
A3: Sí, su tamaño de 10x10 mm y su grosor de 0,5 mm se ajustan a los estándares de equipamiento habituales en la fabricación de semiconductores. La calidad constante del cristal simplifica la integración en los procesos rutinarios de deposición y grabado.

Información adicional

La naturaleza monocristalina de los sustratos de cobre desempeña un papel importante en la reducción de defectos a nivel atómico, favoreciendo así la fabricación avanzada de semiconductores. La orientación uniforme de los cristales, como el (111), proporciona una plataforma fiable para estudiar los fenómenos interfaciales y el crecimiento de películas delgadas.

En el contexto más amplio de la ciencia de los materiales, los sustratos monocristalinos son esenciales para la investigación que requiere un control preciso de las propiedades estructurales. Estos sustratos facilitan la comprensión de los efectos cristalográficos fundamentales sobre el rendimiento de los materiales, lo que contribuye a las investigaciones académicas e industriales sobre aplicaciones electrónicas y ópticas avanzadas.