CY8577 Oblea de carburo de silicio Sustrato SiC 8 en 4H tipo N

Sustrato de oblea de carburo de silicio SiC de 8 pulgadas 4H tipo N Descripción

Nuestro sustrato para obleas de carburo de silicio (SiC) 4H tipo N de 8 pulgadas está a la vanguardia de los materiales semiconductores de alto rendimiento, ya que ofrece una conductividad térmica excepcional, una movilidad de portadores superior y una tensión de ruptura notable. Su estructura de tipo 4H está diseñada para aplicaciones exigentes, garantizando un transporte de electrones mejorado y una densidad de defectos reducida. Gracias al dopaje de tipo N, este sustrato de SiC ofrece unas características eléctricas estables, lo que lo hace ideal para la electrónica de potencia, los dispositivos de RF y los sistemas de automoción de nueva generación.

La combinación de una sólida integridad estructural y unas mínimas imperfecciones cristalinas convierte a este sustrato de oblea en una plataforma fiable y eficaz para las tecnologías más avanzadas, con un rendimiento superior de los dispositivos en una amplia gama de aplicaciones de alto voltaje, alta frecuencia y alta temperatura.

Sustrato de oblea de carburo de silicio SiC de 8 en aplicaciones 4H tipo N

El sustrato de oblea de carburo de silicio (SiC) de 8 pulgadas y 4H tipo N destaca por sus excepcionales propiedades eléctricas, su conductividad térmica superior y la robustez del material. Estas características lo hacen ideal para soluciones electrónicas avanzadas en diversos sectores civiles, comerciales e industriales. La amplia banda prohibida de la oblea garantiza una mayor eficiencia y fiabilidad, permitiendo aplicaciones innovadoras de alto rendimiento.

1. Aplicaciones industriales

-Sensores de alta temperatura en procesos químicos y petroquímicos, donde la durabilidad y la fiabilidad son fundamentales.

-Sustratos resistentes para la conversión avanzada de energía en equipos de fabricación, optimizando el uso de la energía y el rendimiento.

-Componentes resistentes al calor en sistemas de energías renovables, que permiten inversores y convertidores eficientes.

2. Aplicaciones de investigación

-Experimentación con semiconductores en entornos universitarios y de laboratorio, explorando estructuras de dispositivos de vanguardia.

-Investigación de materiales avanzados centrada en prototipos de alta frecuencia y alto voltaje

-Estudios de gestión térmica destinados a mejorar la eficiencia energética en tecnologías emergentes.

3. Aplicaciones comerciales

-Electrónica de automoción, con módulos de potencia mejorados para vehículos eléctricos e híbridos.

-Infraestructura de telecomunicaciones, permitiendo componentes de red 5G y futuros más rápidos y fiables

-Fabricación de dispositivos médicos, donde el rendimiento estable y la expansión térmica mínima son muy valorados

Oblea de carburo de silicio Sustrato SiC 8 en embalaje 4H tipo N

Cada oblea se embala en un contenedor de transporte de doble capa, revestido de espuma antiestática y sellado en un entorno de nitrógeno seco para reducir la infiltración de humedad. Los materiales amortiguadores protegen contra las tensiones mecánicas. Las condiciones de almacenamiento recomendadas son 15-25°C con una humedad relativa inferior al 40%. Las medidas anticontaminación incluyen fundas selladas individualmente para evitar la adherencia de partículas. También se dispone de etiquetado personalizado, tamaños de envase especializados y revestimientos protectores para satisfacer las necesidades específicas del cliente.

Envasado: Sellado al vacío, caja de madera o personalizado.

Oblea de carburo de silicio Sustrato SiC 8 en 4H tipo N Preguntas frecuentes

P1: ¿Cuáles son las principales propiedades del material del sustrato de carburo de silicio para oblea SiC 8 en 4H tipo N?

R1: Las obleas de carburo de silicio (SiC) de tipo 4H N presentan una amplia banda prohibida de aproximadamente 3,26 eV, una elevada conductividad térmica de alrededor de 3,7-4,9 W/cm-K y una excelente movilidad de electrones. También presentan un alto campo eléctrico de ruptura, normalmente superior a 2,0 MV/cm, y concentraciones de dopaje constantes que producen una conducción estable de tipo N. Estas propiedades hacen que los sustratos de SiC de 8 en 4H sean ideales para la electrónica de potencia, los dispositivos de alta frecuencia y las aplicaciones de alta temperatura.

P2: ¿Cómo debe manipularse y almacenarse este producto?

A2: Los operarios deben manipular siempre las obleas de SiC de tipo N de 8 en 4H con guantes de sala limpia para evitar la contaminación y los microarañazos. Utilice soportes o casetes específicos para obleas con materiales antiestáticos y mantenga unas condiciones de aire con bajas partículas en la zona de almacenamiento. Mantenga las obleas en un entorno de humedad controlada, normalmente entre el 40-60% HR, y evite la luz solar directa o los cambios bruscos de temperatura para conservar la integridad del sustrato.

P3: ¿Qué normas de calidad y certificaciones se aplican al sustrato de oblea de carburo de silicio SiC 8 en 4H tipo N?

R3: Estas obleas de carburo de silicio de tipo SiC 8 en 4H N se ajustan en general a las prácticas de gestión de calidad ISO 9001:2015, lo que garantiza la uniformidad de los parámetros de las obleas y la trazabilidad durante toda la producción. También cumplen las normas SEMI sobre grosor, planitud y tolerancias dimensionales de las obleas. Algunos fabricantes pueden contar con certificaciones medioambientales o de seguridad adicionales, como la conformidad con RoHS y REACH, que indican niveles restringidos de sustancias peligrosas y el cumplimiento de los requisitos normativos mundiales.

Información relacionada

1. Propiedades y ventajas del material

Este sustrato de carburo de silicio tipo oblea SiC de 8 in 4H N se distingue por su notable conductividad térmica y su amplio bandgap, lo que permite un manejo de la potencia y una eficiencia superiores en dispositivos electrónicos de alto rendimiento. Dotado de una estructura cristalina ideal, admite velocidades de conmutación más rápidas y una sólida fiabilidad en entornos operativos difíciles, lo que refleja su idoneidad para aplicaciones de alta tensión y alta temperatura.

Utilizando el poliotipo 4H, este sustrato de SiC ofrece una movilidad de electrones mejorada y pérdidas de conducción reducidas. Su dopaje de tipo N garantiza una concentración de portadores de carga constante y controlada, lo que impulsa un rendimiento estable en circuitos de alta frecuencia. Combinadas con una excelente precisión dimensional, estas obleas contribuyen a los procesos de fabricación que requieren una alineación de precisión y densidades de defectos mínimas.

2. Aplicaciones en industrias avanzadas

Los fabricantes de semiconductores de sectores como el aeroespacial y las telecomunicaciones confían con frecuencia en las obleas de carburo de silicio 4H tipo N para avanzar en sus dispositivos de potencia de próxima generación. Estos sustratos pueden soportar intensos esfuerzos mecánicos y rápidas fluctuaciones de temperatura, lo que los convierte en parte integrante de sistemas que exigen una eficiencia constante durante largos periodos de vida útil.

La investigación de vanguardia en propulsión de vehículos eléctricos, soluciones de energías renovables y automatización industrial también se nutre de los 8 sustratos de SiC. Al proporcionar una mayor densidad de potencia y reducir las pérdidas de energía, estas obleas permiten desarrollar inversores y convertidores compactos y ligeros. Su capacidad para manejar corrientes y tensiones elevadas las hace indispensables para ampliar los límites de la electrónica de potencia moderna.