CY8541 Sustrato de cristal de silicio (Si) (111) 10x10 mm

Sustrato de cristal de silicio (Si) (111) 10x10 mm Descripción

Este sustrato de cristal de silicio (Si) (111) 10×10 mm ofrece una base consistentemente uniforme y robusta para una gran variedad de aplicaciones industriales y de investigación. La orientación cristalográfica (111) proporciona una uniformidad de red excepcional, por lo que es ideal para el desarrollo de dispositivos semiconductores avanzados, crecimiento epitaxial y estudios de ciencia de superficies. Fabricado según estrictas normas de pureza, este sustrato presenta defectos mínimos y una superficie extraordinariamente lisa. Su estructura monocristalina garantiza un comportamiento predecible de los portadores de carga y una excelente estabilidad térmica.

Cada sustrato, que cumple rigurosos criterios de calidad, se somete a una meticulosa inspección para garantizar un corte preciso, un grosor uniforme y una planitud superior. Estos atributos facilitan la producción de componentes y chips de alto rendimiento para la fabricación de microelectrónica, MEMS y sensores. La calidad fiable del material y la precisión de la orientación hacen de este sustrato una solución valiosa para quienes buscan la excelencia tanto en entornos de investigación como de producción.

Sustrato de cristal de silicio (Si) (111) 10x10 mm Aplicaciones

El sustrato de cristal de silicio (Si) (111) 10x10 mm se valora por su orientación atómica precisa, su alta pureza y sus excelentes propiedades eléctricas. Su estructura cristalina uniforme es compatible con la tecnología avanzada de semiconductores, mientras que la orientación (111) de la superficie mejora la compatibilidad con los procesos de crecimiento epitaxial. Esta combinación de precisión, estabilidad y conductividad hace que el sustrato sea muy versátil, permitiendo soluciones innovadoras en entornos industriales, comerciales y de investigación.

1. Aplicaciones industriales

-Fabricación de obleas: Permite la producción de circuitos integrados de alto rendimiento y dispositivos de potencia.

-Producción de sensores: Proporciona una base cristalina estable para sensores, garantizando mediciones precisas y fiables en entornos difíciles.

2. Aplicaciones de investigación

-Estudios de capas finas: ofrece una superficie ideal para investigar el crecimiento de materiales y las técnicas de deposición.

-Computación cuántica: sirve como sustrato fiable para probar dispositivos cuánticos y estudiar arquitecturas computacionales novedosas.

3. Aplicaciones comerciales

-Dispositivos optoelectrónicos: Facilita el desarrollo de pantallas innovadoras, componentes fotónicos y módulos de comunicación.

-Electrónica de consumo: Forma la base de procesadores de vanguardia y chips especializados que se encuentran en smartphones, wearables, etc.

Sustrato de cristal de silicio (Si) (111) Embalaje de 10x10 mm

Cada sustrato de cristal de silicio (Si) de 10x10 mm (111) está cuidadosamente embalado en una bolsa antiestática y acolchado con inserciones de espuma para evitar daños mecánicos. Un recipiente hermético y resistente a la humedad garantiza la protección contra la humedad. El sustrato debe almacenarse en un entorno limpio, sin polvo y a temperatura ambiente. El doble sellado minimiza aún más los riesgos de contaminación. Las opciones personalizadas incluyen revestimientos especializados, variaciones de grosor y marcas de orientación únicas.

Envasado: Sellado al vacío, caja de madera o personalizado.

Sustrato de cristal de silicio (Si) (111) 10x10 mm Preguntas frecuentes

P1: ¿Cuáles son las principales propiedades del material del sustrato de cristal de silicio (Si) (111) 10x10 mm?

R1: Este sustrato es silicio monocristalino con una orientación (111), que ofrece un plano de red consistente para la fabricación de dispositivos avanzados. Suele tener un rango de resistividad entre 1 y 10 Ω-cm, lo que garantiza una movilidad de electrones estable. La superficie está pulida por un lado, con lo que se consigue una rugosidad inferior a 5 Å. Su pureza del 99,9999% proporciona una composición uniforme propicia para procesos microelectrónicos fiables. Además, su estructura cristalográfica bien definida admite el crecimiento epitaxial para diversas rutinas de semiconductores.

P2: ¿Cómo debe manipularse y almacenarse este producto?

A2: Al manipular el sustrato, utilice guantes limpios para evitar la contaminación y evite el contacto directo con la superficie pulida. Utilice pinzas específicas o varillas de vacío para minimizar el estrés mecánico. Almacénelo en un entorno limpio y de baja humedad, idealmente en un desecador purgado con nitrógeno. Protéjalo de las fluctuaciones extremas de temperatura para preservar la integridad cristalográfica. Empaquete individualmente cada sustrato en un contenedor antiestático para evitar daños en la superficie.

P3: ¿Qué normas y certificaciones de calidad se aplican al sustrato de cristal de silicio (Si) (111) 10x10 mm?

R3: Las certificaciones reconocidas por la industria, como ISO 9001:2015 e ISO 14001:2015, suelen aplicarse a los procesos de fabricación, lo que garantiza una calidad constante y responsabilidad medioambiental. Los sustratos también cumplen las especificaciones SEMI M1, que cubren las tolerancias dimensionales, la rugosidad de la superficie y la densidad general de defectos. Además, la documentación puede hacer referencia a ASTM F76 o normas equivalentes para mediciones de resistividad y perfiles de dopaje. El cumplimiento de las normativas RoHS y REACH suele estar garantizado para satisfacer los requisitos del mercado mundial.

Información relacionada

1. 1. Proceso de fabricación

La fabricación del sustrato de cristal de silicio (Si) (111) 10x10 mm suele comenzar con la cuidadosa selección de lingotes de silicio monocristalino. Estos lingotes se cultivan en condiciones térmicas y atmosféricas estrictamente controladas para mantener la uniformidad en la orientación y pureza del cristal. Métodos de extracción avanzados, como la técnica Czochralski, ayudan a conseguir una excelente estructura cristalina que se alinea perfectamente con la orientación (111). Esto garantiza unos defectos mínimos, por lo que resulta ideal para dispositivos que exigen una gran precisión y estabilidad.

Durante la fase de conformación del cristal, el lingote se corta en sustratos mediante un equipo especializado de corte con diamante diseñado para lograr un grosor uniforme y una calidad superficial superior. A continuación, cada sustrato se somete a un proceso de pulido que refina la rugosidad de la superficie, permitiendo interfaces suaves en aplicaciones posteriores. El preciso control dimensional, que da como resultado un formato de 10x10 mm, garantiza la compatibilidad con una amplia gama de sistemas de microfabricación y mejora el rendimiento en las líneas de producción de semiconductores.

2. Aplicaciones en industrias avanzadas

Sectores de vanguardia como la microelectrónica, la tecnología de sensores y la fotónica confían en la orientación de cristal (111) para aplicaciones que exigen bajas densidades de defectos y una movilidad óptima de los portadores de carga. El sustrato de cristal de silicio (Si) (111) 10x10 mm es especialmente valorado en estas industrias por su capacidad para mantener la integridad estructural en intensas etapas de procesamiento, como la difusión a alta temperatura y la implantación de iones. Su estable disposición reticular contribuye además a unas vías de conducción eficientes, vitales para la electrónica crítica a nivel de oblea.

En el ámbito de la computación cuántica y los nuevos circuitos integrados, este sustrato especializado constituye una base excelente para la investigación y los avances en ingeniería. Su tamaño preciso de 10x10 mm permite el uso de técnicas litográficas avanzadas, lo que garantiza un patrón preciso de los dispositivos y reduce el desperdicio de material. Los investigadores suelen explotar el plano cristalográfico (111) para estudiar nuevas arquitecturas de puntos cuánticos y componentes espintrónicos, lo que lo convierte en un material esencial para innovaciones a la vanguardia de la tecnología moderna.