CY8540 Sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 10x10 mm

Sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 10x10 mm Descripción

Nuestro sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 10×10 mm se fabrica con precisión a partir de silicio monocristalino de gran pureza, lo que garantiza una uniformidad excepcional y una baja densidad de defectos. La orientación cristalográfica (110) ofrece ventajas únicas para los procesos avanzados de fabricación de dispositivos, incluidos el grabado anisotrópico y el crecimiento epitaxial. Su estructura reticular consistente ayuda a minimizar la tensión en las capas epitaxiales, mejorando el rendimiento del dispositivo y la fiabilidad general. Además, el suave acabado superficial y las estrechas tolerancias dimensionales permiten una integración perfecta en una amplia gama de aplicaciones industriales y de investigación.

Diseñado para cumplir rigurosas normas de calidad, este sustrato se somete a estrictos procedimientos de inspección y limpieza para reducir la contaminación y mantener óptimas las superficies de las obleas. Si está investigando nuevos materiales semiconductores, desarrollando circuitos integrados de nueva generación o explorando dispositivos MEMS, nuestro sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 10×10 mm ofrece la precisión, durabilidad y consistencia necesarias para obtener resultados de vanguardia.

Sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 10x10 mm Aplicaciones

El sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 10x10 mm es famoso por su estructura cristalina uniforme, su dopaje constante y su estabilidad térmica inigualable. Este sustrato compacto está muy solicitado en electrónica avanzada, óptica de precisión y ensayos de materiales. Con propiedades como la alta pureza, la excelente movilidad de los portadores y la precisión dimensional, se convierte en un pivote en diversos ámbitos que impulsan la innovación y los avances en la investigación. Diseñado para ser fiable, fomenta el rendimiento de los dispositivos de última generación.

1. Aplicaciones industriales

-Aplicación 1: Utilizado en componentes de maquinaria de alta temperatura gracias a su resistencia térmica y estabilidad superiores.

-Aplicación 2: Empleado en procesos de fabricación de semiconductores a gran escala para una producción de obleas extremadamente precisa.

2. Aplicaciones de investigación

-Aplicación 1: parte integral de dispositivos experimentales de computación cuántica en los que el dopaje controlado es crucial.

-Aplicación 2: esencial para el desarrollo de dispositivos nanoelectrónicos, lo que permite explorar nuevas arquitecturas de transistores.

3. Aplicaciones comerciales

-Aplicación 1: se utiliza en electrónica de consumo de gama alta para prolongar la vida útil y la eficiencia de los dispositivos.

-Aplicación 2: se utiliza en tecnologías fotovoltaicas para mejorar el rendimiento de las células solares y la conversión de energía.

Sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 10x10 mm Embalaje

Cada sustrato de cristal de silicio (Si) de 10×10 mm (110) está protegido en una bolsa sellada antiestática con inserciones de espuma para evitar daños mecánicos. El embalaje incluye desecantes con control de humedad para mantener la sequedad y reducir el riesgo de contaminación. Almacénelos en entornos limpios, con temperatura controlada y alejados de la luz solar directa. Existen opciones de doble sellado y vacío para mejorar la limpieza. Bajo pedido, se pueden realizar etiquetados personalizados, embalajes especializados y ajustes de cantidad.

Envasado: Sellado al vacío, caja de madera o personalizado.

Sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 10x10 mm Preguntas frecuentes

P1: ¿Cuáles son las principales propiedades del sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 10x10 mm?

R1: El sustrato de cristal de silicio (Si) (110) es conocido por su orientación cristalográfica bien definida, su alta pureza y su preciso control del dopaje. Con una constante de red de aproximadamente 5,431 Å, ofrece una excelente estabilidad mecánica, una dureza en torno a 1150 HV y una conductividad térmica de 148 W/m-K. Esta orientación (110) es especialmente beneficiosa para determinadas aplicaciones de dispositivos debido a sus propiedades eléctricas y ópticas anisótropas.

P2: ¿Cómo debe manipularse y almacenarse este producto?

A2: Estos sustratos se manipulan normalmente con guantes de sala limpia y se almacenan en envases inertes o sellados al vacío para evitar la contaminación o la oxidación. Las superficies pueden ser extremadamente sensibles a los arañazos, por lo que es esencial utilizar únicamente materiales no abrasivos durante la limpieza. Las fluctuaciones de temperatura deben reducirse al mínimo para evitar deformaciones, y la humedad debe controlarse para evitar la absorción de humedad que puede afectar a la integridad de la superficie del sustrato.

P3: ¿Qué normas de calidad y certificaciones se aplican al sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 10x10 mm?

R3: En lo que respecta a los estrictos criterios de rendimiento, estos sustratos suelen cumplir los sistemas de gestión de calidad ISO 9001. Muchos proveedores también siguen las normas SEMI, como la M1, para las especificaciones de las obleas de silicio, que garantizan la uniformidad del grosor, la planitud y la orientación cristalográfica. Los controles rutinarios mediante difracción de rayos X y perfilometría de superficie verifican la uniformidad del sustrato. Además, el cumplimiento de las directivas RoHS garantiza una fabricación responsable con el medio ambiente, libre de sustancias peligrosas como plomo, mercurio o cadmio.

Información relacionada

1. Propiedades y ventajas del material

El sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 10x10 mm es famoso por su estructura robusta y versátil, que lo hace ideal para numerosas aplicaciones de alta precisión. Su orientación (110) proporciona un conjunto único de características cristalográficas, permitiendo una movilidad de portadores superior en ciertos diseños de transistores y mejorando las propiedades de conducción superficial. Esta orientación específica también ofrece una uniformidad mejorada en la deposición de películas finas, garantizando que los investigadores y fabricantes puedan obtener resultados fiables al desarrollar dispositivos electrónicos y fotónicos avanzados.

Gracias a su tamaño compacto de 10x10 mm, este sustrato resulta especialmente práctico para pruebas de laboratorio y series de producción a pequeña escala. Consigue un equilibrio entre la eficiencia de los materiales y el rendimiento de los dispositivos, lo que permite crear prototipos rentables sin sacrificar la precisión ni la consistencia. Su capacidad para mantener unas características eléctricas estables en diversas condiciones ambientales consolida aún más su papel en la investigación puntera sobre semiconductores y en los procesos de microfabricación.

2. Tendencias del mercado mundial

La creciente demanda de tecnologías energéticamente eficientes y componentes miniaturizados está impulsando un gran interés por el sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 10x10 mm. Industrias como la microelectrónica, la fotovoltaica y la fabricación de sensores están adoptando activamente estos sustratos para responder a la creciente demanda de dispositivos de alto rendimiento y bajo consumo. A medida que las instalaciones de fabricación de semiconductores se expanden por todo el mundo, los fabricantes de este sustrato se benefician del establecimiento de cadenas de suministro fiables y de la atención a los mercados internacionales que dan prioridad a una orientación cristalográfica precisa y a unas propiedades consistentes de los materiales.

En los últimos años, las iniciativas de colaboración entre institutos de investigación, empresas tecnológicas y organismos gubernamentales han impulsado la inversión global en innovación de sustratos de silicio. El auge de las asociaciones mundiales ha acelerado la exploración de nuevas arquitecturas de dispositivos y técnicas de procesamiento, reforzando en última instancia la viabilidad comercial de sustratos de pequeño formato como la oblea de silicio de 10x10 mm (110). Se prevé que estas tendencias continúen a medida que las industrias avanzadas hagan hincapié en diseños compactos y eficientes para satisfacer las cambiantes demandas de los consumidores y la industria.