CY8539 Sustrato de cristal de silicio (Si) (100) 10x10 mm

Sustrato de cristal de silicio (Si) (100) 10x10 mm Descripción

Nuestro sustrato de cristal de silicio (Si) (100) 10×10 mm ofrece una pureza de material y una perfección cristalina superiores, lo que lo convierte en una base ideal para la investigación avanzada de semiconductores y la fabricación de dispositivos. Cortado con precisión en la orientación (100), este sustrato presenta una baja rugosidad superficial y una alta uniformidad, esenciales para lograr resultados consistentes en la deposición de capas y el grabado. Sus excelentes propiedades eléctricas y conductividad térmica garantizan un rendimiento óptimo tanto en aplicaciones electrónicas convencionales como de vanguardia.

Fabricado bajo estrictas normas de calidad, cada sustrato se somete a una rigurosa inspección para mantener tolerancias más estrictas en cuanto a grosor, resistividad y planitud de la superficie. Este enfoque en la precisión y la fiabilidad permite a investigadores e ingenieros desarrollar soluciones innovadoras en microelectrónica, fotónica y otros campos de alta tecnología. Ya sea para la creación de prototipos o para la producción a gran escala, nuestro sustrato de Si (100) satisface los requisitos más exigentes de la industria.

Sustrato de cristal de silicio (Si) (100) 10x10 mm Aplicaciones

El sustrato de cristal de silicio (Si) (100) 10x10 mm es una plataforma esencial para diversas tecnologías de alta precisión. Su orientación cristalina bien definida, su conductividad térmica superior y la calidad uniforme de su superficie favorecen la microfabricación avanzada, permitiendo un rendimiento preciso de los dispositivos. Las propiedades únicas de este sustrato también garantizan defectos mínimos y una excelente durabilidad, lo que lo hace indispensable en los sectores industrial, de investigación y comercial, donde la precisión y la fiabilidad son cruciales para desarrollar productos de próxima generación.

1. Aplicaciones industriales

-Aplicación 1: Uso en la fabricación de sistemas microelectromecánicos (MEMS), aprovechando la consistencia cristalográfica del sustrato para la producción de dispositivos de alta precisión.

-Aplicación 2: Integración en procesos de fabricación de semiconductores, garantizando un rendimiento estable a altas temperaturas y en condiciones exigentes.

2. Aplicaciones de investigación

-Aplicación 1: Base para experimentos nanotecnológicos que requieren una superficie libre de defectos, crucial para obtener resultados reproducibles.

-Aplicación 2: Desarrollo de prototipos de sensores avanzados, aprovechando las propiedades intrínsecas superiores del sustrato para obtener datos precisos.

3. Aplicaciones comerciales

-Aplicación 1: Embalaje de alta densidad en electrónica de consumo, que se beneficia de un grosor uniforme y excelentes propiedades de conducción.

-Aplicación 2: Fabricación de componentes ópticos para tecnología de visualización, aprovechando la mínima rugosidad de la superficie para una claridad superior.

Sustrato de cristal de silicio (Si) (100) Embalaje de 10x10 mm

Cada sustrato de cristal de silicio (Si) de 10x10 mm se coloca en un soporte acolchado antiestático que garantiza la máxima absorción de impactos. Este soporte se sella al vacío en una bolsa de grado sala limpia para evitar la infiltración de polvo. Para mantener la pureza, el envase sellado debe almacenarse en un entorno seco y controlado. Otras medidas anticontaminación incluyen el uso de guantes y bancos de flujo laminar durante la manipulación. Se pueden solicitar soluciones de envasado personalizadas, como soportes para obleas o insertos multicapa.

Envasado: Sellado al vacío, caja de madera o personalizado.

Sustrato de cristal de silicio (Si) (100) 10x10 mm Preguntas frecuentes

P1: ¿Cuáles son las principales propiedades del material del sustrato de cristal de silicio (Si) (100) 10x10 mm?

R1: El sustrato de cristal de silicio (Si) (100) 10x10 mm suele tener una estructura cristalina cúbica con una orientación (100), una gran pureza y un bajo nivel de defectos. Su conductividad térmica es de aproximadamente 150 W/mK a 300 K, y presenta una brecha de banda energética de aproximadamente 1,12 eV. Este sustrato ofrece una excelente resistencia mecánica, estabilidad química y grosor uniforme para aplicaciones electrónicas y fotónicas avanzadas.

P2: ¿Cómo debe manipularse y almacenarse este producto?

R2: Para mantener la integridad del sustrato, manipule cada pieza con guantes o pinzas limpios y sin pelusa para evitar la contaminación y los daños en la superficie. Almacene los sustratos en condiciones ambientales con humedad mínima, idealmente utilizando cajas protectoras para obleas o contenedores acolchados. Evite la exposición a productos químicos agresivos o a fluctuaciones rápidas de temperatura, ya que pueden provocar tensiones o defectos. Inspeccione periódicamente en busca de contaminación o virutas, y mantenga un etiquetado cuidadoso para la trazabilidad y el control de inventario.

P3: ¿Qué normas de calidad y certificaciones se aplican a los sustratos de cristal de silicio (Si) (100) 10x10 mm?

R3: Estos sustratos de silicio suelen cumplir las normas SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) sobre grosor, planitud y precisión de orientación de las obleas. Pueden llevar certificaciones ISO 9001, que indican estrictos procesos de gestión de calidad. Las verificaciones metrológicas, como la difracción de rayos X (DRX) para confirmar la orientación de los cristales y las mediciones de reflectividad, garantizan la consistencia del sustrato. La morfología de la superficie y las inspecciones de defectos se realizan conforme a las especificaciones del sector. Cada lote suele ir acompañado de documentación exhaustiva para autenticar la trazabilidad y los estándares de producción.

Información relacionada

1. Propiedades y ventajas del material

Fabricada a partir de silicio ultrapuro, la oblea (100) de 10x10 mm ofrece una superficie excepcionalmente lisa, óptima para dispositivos microelectrónicos de alta precisión. Este sustrato presenta una orientación cristalina de (100), lo que garantiza unas características eléctricas y térmicas uniformes en toda su dimensión cuadrada, contribuyendo a un rendimiento constante y a la reducción de los niveles de defectos.

Elegido por su excelente conductividad térmica, este sustrato de cristal de silicio puede dispersar eficazmente el calor y mantener la estabilidad estructural durante los complejos pasos de fabricación. Su alto nivel de pureza reduce los riesgos de contaminación, lo que lo convierte en una opción ideal en aplicaciones en las que la fiabilidad del producto y la precisión del flujo de señales son primordiales.

2. Aplicaciones en industrias avanzadas

Al proteger los circuitos microelectrónicos críticos de las interferencias, el sustrato de silicio (100) 10x10 mm desempeña un papel fundamental en la fabricación de dispositivos médicos, aeroespaciales y de automoción. Esta oblea de cristal contribuye al desarrollo de sensores miniaturizados, transductores de precisión y componentes optoelectrónicos especializados, permitiendo soluciones de vanguardia que deben soportar entornos operativos difíciles.

Las sólidas actividades de I+D en la investigación de semiconductores dependen de estas obleas altamente estandarizadas para producir circuitos integrados y componentes fotónicos de próxima generación. Con su estructura reticular consistente y su excelente fiabilidad a largo plazo, estos sustratos de silicio contribuyen a impulsar los avances en computación cuántica, sistemas avanzados de imagen y otras tecnologías de vanguardia que requieren un rendimiento sin concesiones.