CY8537 Sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 5x5 mm

Sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 5x5 mm Descripción

Diseñado para la microfabricación avanzada y la investigación fotónica, nuestro sustrato de cristal de silicio (110) de 5 × 5 mm ofrece una precisión y uniformidad inigualables. La orientación del índice (110) Miller de este sustrato proporciona propiedades anisotrópicas únicas, lo que lo hace muy valioso para la ingeniería de dispositivos a nanoescala. Todos los sustratos se fabrican siguiendo estrictas normas de calidad, lo que garantiza unos defectos superficiales mínimos, una baja rugosidad y una pureza excepcional. El resultado es un crecimiento epitaxial superior y un funcionamiento fiable en entornos de alta temperatura y tensión. Entre las aplicaciones más populares se encuentran los sistemas microelectromecánicos (MEMS), la deposición de películas finas y el desarrollo de sensores.

Nuestro meticuloso proceso de producción y nuestro riguroso control de calidad garantizan una excelente planitud y precisión dimensional. Este sustrato es la solución perfecta para investigadores e ingenieros que buscan una plataforma estable y fiable para sus proyectos de semiconductores más exigentes.

Sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 5x5 mm Aplicaciones

Los sustratos de cristal de silicio (110), que miden 5x5 mm, son muy apreciados por sus propiedades estructurales únicas y la orientación uniforme de sus cristales, que facilitan el rendimiento avanzado de los dispositivos. Estos sustratos permiten un patrón preciso y apoyan diversos esfuerzos industriales, de investigación y comerciales. Gracias a su gran pureza y a sus características eléctricas superiores, constituyen plataformas ideales para una amplia gama de aplicaciones relacionadas con la microelectrónica y la nanofabricación.

1. Aplicaciones industriales

-Aplicación 1: Embalaje conductor a nivel de oblea de microelectrónica de alto rendimiento, aprovechando la orientación (110) para una unión fiable y una distorsión mínima de la señal.

-Aplicación 2: Sensores de alta precisión para usos aeroespaciales y de automoción, aprovechando las características de respuesta a la tensión del plano (110) para una fiabilidad constante.

-Aplicación 3: Microfabricación robusta de dispositivos MEMS que requieren un grosor uniforme, garantizando propiedades mecánicas estables en condiciones de funcionamiento industrial.

2. Aplicaciones de investigación

-Aplicación 1: Estudios de crecimiento epitaxial para I+D de semiconductores avanzados, utilizando el sustrato (110) para examinar la deformación de la red y la propagación de defectos.

-Aplicación 2: Prototipos de dispositivos cuánticos en los que la orientación precisa de la superficie es fundamental para mejorar la movilidad de los electrones y reducir la dispersión.

-Aplicación 3: experimentos de física fundamental que investigan las propiedades de transporte térmico y eléctrico en orientaciones cristalinas bien definidas.

3. Aplicaciones comerciales

-Aplicación 1: Componentes fotónicos integrados que explotan los índices de refracción únicos del plano (110) para una propagación eficaz de la luz.

-Aplicación 2: Recubrimientos especializados de película fina y capas protectoras, que se benefician de la calidad uniforme del sustrato y de la mejora de la adherencia.

-Aplicación 3: sensores de electrónica de consumo (por ejemplo, sensores de presión o táctiles) que utilizan la estabilidad del sustrato en condiciones ambientales variables.

Sustrato de cristal de silicio (Si) (110) Embalaje de 5x5 mm

Cada sustrato de Si (110) de 5×5 mm se embala en un entorno limpio y libre de electricidad estática, utilizando materiales acolchados y de bajas partículas para garantizar la seguridad y la integridad del producto. Las superficies se protegen de la humedad y el polvo con películas protectoras selladas anticontaminación. El envase sellado se almacena a temperatura y humedad controladas para minimizar la oxidación. También se ofrecen opciones de personalización, como envases de doble capa sellados al vacío o soportes especializados, para satisfacer necesidades específicas de manipulación y envío.

Envasado: Sellado al vacío, caja de madera o personalizado.

Sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 5x5 mm Preguntas frecuentes

P1: ¿Cuáles son las principales propiedades del sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 5x5 mm?

R1: El sustrato de cristal de silicio (Si) con orientación (110) ofrece propiedades anisotrópicas distintas en comparación con la orientación más común (100). Tiene una estructura cristalina de diamante cúbico, altos niveles de pureza (a menudo 99,9999%) y una conductividad térmica en torno a 150 W/m-K a temperatura ambiente. El plano (110) presenta una resistencia a la fractura y una estructura de banda electrónica diferentes, lo que lo hace ideal para la fabricación de dispositivos especializados, como canales de transistores avanzados y sistemas microelectromecánicos (MEMS).

P2: ¿Cómo debe manipularse y almacenarse este producto?

A2: Manipule estos sustratos por los bordes o con guantes de sala limpia para evitar contaminaciones y daños. Almacénelos en un entorno libre de polvo y con temperatura controlada para preservar la integridad de la superficie y evitar la oxidación. Utilice soportes protectores o cajas de obleas para protegerlos de la tensión mecánica. Se recomienda realizar inspecciones periódicas con un microscopio o un perfilómetro de superficie para confirmar la limpieza y la calidad de la superficie antes de cualquier procesamiento. Evite aplicar una fuerza o flexión excesivas para mantener la integridad de los cristales.

P3: ¿Qué normas de calidad y certificaciones se aplican al sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 5x5 mm?

R3: Los sustratos de silicio (110) suelen cumplir las especificaciones SEMI M1 en cuanto a geometría, planitud y calidad superficial de las obleas. Los fabricantes suelen adherirse a la norma ISO 9001 para los sistemas de gestión de calidad, lo que garantiza una producción coherente y protocolos de inspección rigurosos. Las tolerancias epitaxiales y de dopaje se verifican mediante métodos como la medición con sonda de cuatro puntos o la espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS). Estas certificaciones garantizan la trazabilidad, la reproducibilidad y el cumplimiento de las normas internacionales, lo que hace que los sustratos sean adecuados para aplicaciones industriales y de investigación de alta precisión.

Información relacionada

1. Proceso de fabricación

La creación de un sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 5x5 mm suele comenzar con el crecimiento de un lingote de silicio de gran pureza, que luego se orienta y corta cuidadosamente para conseguir el plano cristalográfico (110). Durante estos pasos, se emplean procedimientos avanzados de aserrado y pulido para mantener la planitud del sustrato, minimizar los defectos y preservar su grosor uniforme, garantizando que la orientación (110) se presente con precisión en toda la superficie de 5x5 mm.

Las técnicas de precisión son cruciales para refinar aún más el sustrato. Tras el corte, las superficies se someten a un exhaustivo régimen de limpieza para eliminar contaminantes, seguido de procesos de grabado que mejoran la suavidad de la red cristalina. Este meticuloso enfoque ayuda a mantener unas características eléctricas y mecánicas constantes, lo que permite al sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 5x5 mm cumplir los exigentes requisitos de las aplicaciones especializadas de microelectrónica y nanotecnología.

2. Aplicaciones en la industria avanzada

El sustrato de cristal de silicio (Si) (110) 5x5 mm se utiliza ampliamente en dispositivos electrónicos de última generación, en los que la orientación cristalográfica proporciona propiedades eléctricas distintivas adecuadas para determinadas configuraciones de transistores. Su precisa alineación estructural también favorece las tecnologías de sensores avanzados, sobre todo en la fabricación de dispositivos MEMS y sofisticados fotodetectores.

Su sólido rendimiento en condiciones difíciles hace que este sustrato sea ideal para otros ámbitos de alta precisión, como la optoelectrónica y la computación cuántica. Al aprovechar la mayor movilidad de portadores característica del plano cristalográfico (110), los ingenieros pueden desarrollar componentes con mayor velocidad y sensibilidad, impulsando así la innovación en una serie de industrias punteras.