CY8303 Sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm

Sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Descripción

Los sustratos de cristal de zafiro de óxido de aluminio (Al₂O₃) cuentan con una excepcional resistencia mecánica, estabilidad química y alta conductividad térmica, lo que los convierte en una base ideal para diversas aplicaciones de alto rendimiento. Este sustrato de zafiro de plano R (1-102) presenta un diámetro de 50,8 mm y un grosor de 0,5 mm, lo que proporciona una amplia superficie y un grosor uniforme para el crecimiento epitaxial. Su exclusiva orientación cristalográfica garantiza unas propiedades óptimas para la fabricación de dispositivos avanzados, como optoelectrónica, electrónica de alta frecuencia y láseres semiconductores.

Cada sustrato se somete a estrictos controles de calidad para verificar la orientación del cristal, el pulido y la planitud de la superficie. Fabricado para cumplir las rigurosas normas del sector, presenta defectos mínimos y ofrece un rendimiento fiable incluso en los desarrollos comerciales y de investigación más exigentes. Tanto para la producción de LED como para complejas matrices de sensores, este sustrato de zafiro de gran pureza ofrece resultados fiables cuando la precisión y la durabilidad son lo más importante.

Sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Aplicaciones

Sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio (Al2O3 R-Plane (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm) ofrece resistencia mecánica, claridad óptica e inercia química. Gracias a su alta conductividad térmica y baja pérdida dieléctrica, es ideal para procesos exigentes como el crecimiento de dispositivos semiconductores y la óptica avanzada. Su orientación precisa también permite aplicaciones únicas de crecimiento epitaxial, por lo que resulta indispensable en diversos sectores y campos de investigación.

1. Aplicaciones industriales

- Aplicación 1: Ideal para hornos de alta temperatura gracias a su excelente estabilidad térmica y resistencia al desgaste.

- Aplicación 2: Se utiliza en entornos químicos agresivos donde la resistencia a la corrosión garantiza la longevidad del equipo

2. Aplicaciones de investigación

- Aplicación 1: Sirve de plataforma estable para la deposición de película fina orientada al plano R en el desarrollo de semiconductores.

- Aplicación 2: Permite la experimentación óptica precisa y las investigaciones basadas en láser gracias a una dispersión mínima y una gran claridad.

3. Aplicaciones comerciales

- Aplicación 1: Proporciona sustratos robustos para tecnologías de sensores avanzados en electrónica de consumo.

- Aplicación 2: Mejora la durabilidad de los componentes ópticos utilizados en dispositivos médicos y de imagen.

Sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Embalaje

Estos sustratos de cristal de óxido de aluminio y zafiro se presentan en envases protectores de plástico con inserciones de espuma para evitar daños mecánicos. Un entorno sellado al vacío o purgado con nitrógeno ayuda a reducir la humedad y la intrusión de partículas. Almacénelos en un lugar limpio, a temperatura controlada y con niveles de humedad estables. Otras medidas anticontaminación, como las bolsas selladas, garantizan la limpieza. Las opciones de personalización incluyen espesores alternativos, acabados superficiales y tamaños a medida para necesidades especializadas.

Envasado: Sellado al vacío, caja de madera o personalizado.

Sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Preguntas frecuentes

P1: ¿Cuáles son las principales propiedades del material del sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm ?

A1: El sustrato de zafiro de plano R Al2O3 es conocido por su extraordinaria estabilidad térmica, alta resistencia mecánica, excelente resistencia química y óptima transparencia óptica. Compuesto principalmente de óxido de aluminio monocristalino, ofrece una dureza Mohs de 9, una planitud de superficie superior y un bajo coeficiente de expansión térmica. Esta orientación en el plano R alinea los planos cristalinos con precisión para la epitaxia avanzada y garantiza un desajuste mínimo de la red en los procesos de epitaxia de haces moleculares o de deposición de películas finas.

P2: ¿Cómo debe manipularse y almacenarse este producto?

A2: Cuando manipule estos sustratos de zafiro de precisión, utilice siempre guantes de sala limpia y evite aplicar una presión mecánica indebida para evitar arañazos o astillas. Almacénelos en recipientes antiestáticos, libres de polvo y con acolchado de apoyo para mantener la integridad de la superficie. Mantenga un entorno estable con baja humedad y mínimas fluctuaciones de temperatura para reducir el estrés. Se recomienda encarecidamente limpiarlos a fondo con disolventes autorizados o agua ultrapura antes de utilizarlos.

P3: ¿Qué normas de calidad y certificaciones se aplican al sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm ?

A3: Los fabricantes suelen cumplir las normas ISO 9001 de gestión de calidad e ISO 14001 de gestión medioambiental para garantizar una producción constante y sostenible. Cada lote se somete a una rigurosa inspección de la orientación cristalográfica, la rugosidad de la superficie y las tolerancias dimensionales para garantizar el cumplimiento de las normas de referencia del sector. La producción suele cumplir las especificaciones MIL-STD o equivalentes para planos ópticos, lo que garantiza un grosor uniforme, impurezas mínimas y un rendimiento estable para aplicaciones avanzadas de semiconductores, fotónica o investigación.

Información relacionada

1. Proceso de fabricación

Para fabricar el sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm. La materia prima de alúmina de gran pureza se funde meticulosamente y se solidifica direccionalmente mediante técnicas avanzadas de crecimiento de cristales, como Czochralski o el crecimiento alimentado por película definida por los bordes. Este paso garantiza una disposición molecular uniforme que favorece un rendimiento eléctrico y óptico homogéneo en toda la superficie de 50,8 mm de diámetro.

Para conseguir la orientación del plano R, técnicos experimentados emplean métodos de corte precisos que producen sustratos con la alineación cristalina (1-102). Una vez cortada, cada oblea se lapea y pule a niveles progresivamente más finos hasta que la rugosidad de la superficie cumple las estrictas especificaciones. El resultado final es un sustrato de 0,5 mm de grosor que destaca por su excepcional integridad estructural, lo que lo hace especialmente adecuado para sofisticados procesos de fabricación de películas finas y dispositivos.

2. Aplicaciones en la industria avanzada

El sustrato de cristal de zafiro y óxido de aluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm se ha convertido en un componente integral de las tecnologías de última generación. Su notable dureza mecánica y su orientación cristalina estable permiten mejorar la fiabilidad de la instrumentación aeroespacial y de diversos sistemas ópticos basados en láser. Además, su baja pérdida dieléctrica y su alta conductividad térmica lo hacen inestimable para dispositivos de microondas de alta frecuencia.

Varios sectores de alto rendimiento emplean este sustrato de zafiro de plano R para construir robustas plataformas de sensores y componentes de potencia. Su grosor de 0,5 mm permite complicados pasos de microfabricación, lo que se traduce en productos más pequeños y eficientes. Los investigadores que estudian nuevas arquitecturas de dispositivos también aprovechan la orientación única del sustrato, que permite un crecimiento epitaxial superior de la capa fina, lo que en última instancia impulsa la innovación en aplicaciones industriales avanzadas.