CY8302 Sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, plano R de Al2O3 (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm

Sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, plano R de Al2O3 (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm Descripción

Este sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio de gran pureza está orientado con precisión a lo largo del plano R (1-102) y mide 10 x 10 x 0,5 mm. Conocido por su excepcional dureza y resistencia mecánica, el zafiro ofrece una excelente conductividad térmica y estabilidad química, por lo que es ideal para aplicaciones industriales y de investigación exigentes. Su baja pérdida dieléctrica y su claridad óptica superior permiten un rendimiento fiable en sensores, sistemas láser y otros dispositivos de alta precisión.

Cada sustrato se somete a un riguroso control de calidad para garantizar una rugosidad superficial mínima y una estructura cristalina casi perfecta. Nuestro exhaustivo proceso de pulido cumple las estrictas normas del sector, allanando el camino para un rendimiento óptimo del material y una integración eficaz en la electrónica y la optoelectrónica de vanguardia. Tanto si se utiliza en la deposición de películas finas como en la microfabricación avanzada, este sustrato de zafiro meticulosamente elaborado ofrece una durabilidad y fiabilidad inigualables.

Sustrato de óxido de aluminio y cristal de zafiro, Al2O3 R-Plane (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm Aplicaciones

El sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio (Al2O3 R-Plane 1-102) es un material cristalino de alta calidad valorado por su excepcional resistencia mecánica, conductividad térmica y estabilidad química. Con un grosor estándar de 0,5 mm y una geometría consistente, estos sustratos son ideales para diversas aplicaciones avanzadas. Su claridad óptica y sus excelentes propiedades dieléctricas también los convierten en un candidato idóneo para la investigación de vanguardia y las innovaciones comerciales.

1. Aplicaciones industriales

- Fabricación de productos electrónicos a alta temperatura: La conductividad térmica y la estabilidad química superiores del sustrato permiten un rendimiento fiable en entornos de calor extremo.

- Recubrimientos protectores resistentes al desgaste: Su excepcional dureza reduce la abrasión y los arañazos, lo que se traduce en piezas industriales más duraderas.

2. Aplicaciones en investigación

- Estudios de crecimiento epitaxial: La orientación del plano R proporciona una estructura reticular única, facilitando la deposición precisa de películas para la investigación en ciencia de materiales.

- Desarrollo de guías de ondas ópticas: La claridad y el espesor controlado del cristal favorecen la experimentación en fotónica avanzada y tecnologías láser.

3. Aplicaciones comerciales

- Sustrato para LED de alto rendimiento: Las excelentes propiedades de gestión térmica del sustrato mejoran la eficiencia y la durabilidad de los productos de iluminación.

- Cristales de relojes de lujo: Su resistencia a los arañazos y su transparencia óptica garantizan una claridad superior y superficies duraderas para relojes de alta gama.

Sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm Embalaje

Cada sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm está envuelto individualmente en una bolsa acolchada resistente a la electricidad estática para evitar daños. Los sustratos sellados se colocan en recipientes de plástico resistente para protegerlos de los contaminantes. Para un almacenamiento óptimo, mantenga un entorno seco y con temperatura controlada. Utilice protocolos de sala blanca al manipularlos para evitar la contaminación. Bajo pedido, se pueden personalizar las dimensiones del envase o las opciones de etiquetado.

Envasado: Sellado al vacío, caja de madera o personalizado.

Sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm Preguntas frecuentes

P1: ¿Cuáles son las principales propiedades del sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, plano R de Al2O3 (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm?

R1: Estos sustratos de zafiro de plano R presentan una gran inercia química, una excelente conductividad térmica y una elevada rigidez dieléctrica. Tienen una orientación cristalográfica nominal de (1-102) y presentan una dureza de 9 en la escala de Mohs. Las dimensiones de 10 x 10 x 0,5 mm garantizan una curvatura mínima y un bajo desajuste de la red para varias capas epitaxiales. Su transparencia óptica se extiende hasta la gama de infrarrojos, lo que los hace adecuados para aplicaciones ópticas, electrónicas y de alta temperatura.

P2: ¿Cómo debe manipularse y almacenarse este producto?

R2: Este sustrato debe manipularse con guantes limpios y sin pelusa para evitar la contaminación y los arañazos. Almacénelo en un entorno libre de polvo y con un mínimo de vibraciones, idealmente en un soporte para obleas o en un contenedor sellado. Evite el contacto con soluciones ácidas o alcalinas, ya que una exposición prolongada puede degradar la calidad de la superficie. Mantenga niveles moderados de humedad y temperatura para evitar problemas de condensación y preservar la integridad mecánica y óptica del sustrato.

P3: ¿Qué normas de calidad y certificaciones se aplican al sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm?

A3: Estos sustratos de zafiro suelen cumplir los sistemas de gestión de calidad ISO 9001 para la fabricación y la inspección. Se fabrican con tolerancias de orientación cristalográfica, especificaciones de rugosidad superficial y variaciones de espesor muy controladas para cumplir las normas de la industria de semiconductores. Cada lote puede ir acompañado de un certificado de conformidad que verifica la precisión dimensional, la orientación y la pureza. Los fabricantes suelen realizar rigurosas pruebas ópticas y mecánicas para garantizar un rendimiento constante.

Información relacionada

1. Propiedades y ventajas del material

Muy apreciado por su excepcional dureza e inercia química, el sustrato de cristal de zafiro y óxido de aluminio en el plano R (1-102) ofrece importantes ventajas para aplicaciones tecnológicas de vanguardia. Mantiene un rendimiento estable en rangos de temperatura extremos, lo que lo hace muy adecuado para su uso en entornos difíciles de investigación y producción. La orientación de este sustrato mejora aún más su integridad estructural, garantizando un riesgo mínimo de grietas o deformaciones durante los exigentes procesos de fabricación.

Con unas dimensiones compactas de 10 x 10 x 0,5 mm, este sustrato de zafiro de plano R también destaca por su claridad óptica y su conductividad térmica, lo que favorece una gestión eficaz del calor en aplicaciones de dispositivos de alta frecuencia. Al ofrecer tanto resistencia mecánica como propiedades dieléctricas estables, constituye una opción de primer nivel para investigadores e ingenieros que buscan resultados consistentes en sofisticados dispositivos semiconductores o fotónicos.

2. Aplicaciones en la industria avanzada

El uso especializado de los sustratos de zafiro de plano R incluye su utilización en la fabricación de dispositivos médicos, donde la calidad y la durabilidad constantes son vitales para los instrumentos de diagnóstico sensibles. Las propiedades cristalográficas controladas del Al2O3 favorecen una integración perfecta en sistemas láser, microscopios y otros equipos de alta precisión, ayudando a maximizar la estabilidad operativa y el rendimiento. Como resultado, numerosas líneas de producción avanzadas confían en estos sustratos para mantener un rendimiento preciso y fiable.

Una parte significativa de los sectores automovilístico y aeroespacial emplea estos sustratos en aplicaciones de detección, donde su naturaleza robusta contrarresta las cargas de vibración y choque que prevalecen en condiciones exigentes. Desde sensores ópticos de alta eficiencia hasta sistemas microelectromecánicos (MEMS) de última generación, el sustrato de cristal de zafiro y óxido de aluminio en plano R (1-102) cumple sistemáticamente los estrictos requisitos de fiabilidad y precisión dimensional, garantizando resultados optimizados en tecnologías de misión crítica.