CY8294 Sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 C-Plane (0001) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm

Sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 C-Plane (0001) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Descripción

Fabricado a partir de una estructura monocristalina de Al₂O₃, este sustrato de zafiro C-plane (0001) se encuentra entre las soluciones más robustas para dispositivos de alto rendimiento. Con un diámetro de 50,8 mm y un grosor de 0,5 mm, ofrece una resistencia mecánica excepcional, inercia química y estabilidad térmica sobresaliente. Estas características lo hacen ideal para aplicaciones avanzadas como la epitaxia de LED, la microelectrónica y los sistemas ópticos. Su elevada constante dieléctrica y sus bajas pérdidas dieléctricas facilitan aún más las operaciones de alta frecuencia.

De acuerdo con las estrictas normas del sector, cada sustrato se somete a rigurosas pruebas para garantizar una calidad constante y unos defectos superficiales mínimos. Las superficies pulidas garantizan un crecimiento epitaxial uniforme y una fácil integración en complejas estructuras de dispositivos. Confíe en esta oblea de zafiro de plano C de Al₂O₃ para obtener un rendimiento fiable, una mayor eficiencia de los dispositivos y una durabilidad inigualable en entornos exigentes.

Sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, plano C de Al2O3 (0001) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Aplicaciones

El sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio (Al2O3) plano C (0001) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm es muy apreciado por su excepcional claridad óptica, increíble dureza y estabilidad térmica superior. Estas características lo convierten en un material esencial en numerosas industrias, que apoya la investigación avanzada y el desarrollo de productos comerciales. Su capacidad para resistir entornos hostiles manteniendo la transparencia óptica lo hace especialmente valioso para dispositivos que requieren un rendimiento fiable en condiciones exigentes.

1. Aplicaciones industriales

- Ventanas protectoras para equipos de alta temperatura, aprovechando la estabilidad térmica superior del sustrato.

- Componentes resistentes al desgaste utilizados en entornos industriales severos, aprovechando la excepcional dureza del zafiro.

2. Aplicaciones de investigación

- Sustrato para la investigación de semiconductores, que proporciona una plataforma estable para el crecimiento epitaxial y los estudios de materiales avanzados.

- Bancos de pruebas de componentes ópticos en experimentos de espectroscopia, que se benefician de las elevadas propiedades de transmisión del cristal.

3. Aplicaciones comerciales

- Cristales de reloj resistentes a los arañazos, que aprovechan la robusta resistencia mecánica del zafiro.

- Lentes de cámara de gama alta, que aprovechan su extraordinaria claridad y baja birrefringencia.

Sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 C-Plane (0001) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Embalaje

Cada sustrato de zafiro Al2O3 C-Plane (0001) (50,8 mm de diámetro x 0,5 mm de grosor) se presenta cuidadosamente en un embalaje antiestático sellado al vacío con acolchado de espuma para evitar daños mecánicos. Los sustratos deben almacenarse en un entorno limpio y de baja humedad para minimizar la contaminación. Utilizamos contenedores de plástico sellados con paquetes desecantes para conseguir una sequedad óptima. Disponemos de opciones de etiquetado y configuraciones de envasado personalizadas para satisfacer necesidades de manipulación específicas, garantizando que cada sustrato se mantenga prístino para una aplicación precisa.

Envasado: Sellado al vacío, caja de madera o personalizado.

Sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 C-Plane (0001) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Preguntas frecuentes

P1: ¿Cuáles son las principales propiedades de los materiales del sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 C-Plane (0001) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm ?

A1: Los sustratos de zafiro de óxido de aluminio (Al2O3) ofrecen una dureza excepcional (9 en la escala de Mohs), una alta conductividad térmica (25-35 W/mK) y una excelente estabilidad química. La orientación del plano C (0001) se ve favorecida por el crecimiento epitaxial, lo que garantiza una red superficial bien definida. Con una constante dieléctrica baja y una transmisión óptica superior, estos sustratos se utilizan ampliamente en aplicaciones microelectrónicas y optoelectrónicas. El diámetro de 50,8 mm y el grosor de 0,5 mm cumplen los requisitos estándar de la industria para obleas.

P2: ¿Cómo debe manipularse y almacenarse este producto?

R2: Debido a su fragilidad y a la precisión de sus superficies, el sustrato debe manipularse en un entorno de sala limpia utilizando guantes que no suelten pelusa y herramientas no abrasivas. Para evitar arañazos o contaminación, almacene cada oblea en un soporte o casete protector, separado por materiales intercalados suaves. Mantenga niveles estables de temperatura y humedad, y evite el contacto directo con las manos desnudas o con productos químicos agresivos para preservar la integridad del cristal.

P3: ¿Qué normas de calidad y certificaciones se aplican al sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 C-Plane (0001) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm ?

A3: En el caso de las obleas de zafiro para semiconductores, los sistemas de calidad pertinentes suelen incluir la norma ISO 9001 para la fabricación en general y la gestión de la calidad, así como la norma ISO 14001 para las prácticas medioambientales. En algunos casos, los productores pueden cumplir las normas SEMI relativas a la geometría, planitud y calidad superficial de las obleas. Muchos proveedores también llevan a cabo una rigurosa metrología interna, como difracción de rayos X, medición de la rugosidad de la superficie e inspecciones de defectos, para garantizar que estos sustratos cumplen las estrictas especificaciones microelectrónicas y optoelectrónicas.

Información relacionada

1. Proceso de fabricación

El proceso de fabricación de un sustrato de cristal de zafiro de óxido de aluminio, Al2O3 C-Plane (0001), Dia. 50,8 mm x 0,5 mm comienza con la formación de un lingote de zafiro de gran pureza. Mediante técnicas cuidadosamente controladas, que a menudo incluyen el método Verneuil o Czochralski, el cristal se cultiva para minimizar las imperfecciones estructurales y las impurezas. Una vez formado el lingote, se corta con precisión en discos del diámetro requerido de 50,8 mm y se somete a minuciosos pasos de esmerilado superficial que ayudan a conseguir un grosor óptimo de 0,5 mm.

Una vez concluidas las etapas de conformación, el sustrato se somete a una meticulosa secuencia de lapeado y pulido para crear una superficie impecable. Utilizando compuestos de pulido patentados y equipos avanzados, los fabricantes garantizan una rugosidad mínima de la superficie, factor crucial para la posterior fabricación del dispositivo. A continuación, el sustrato pulido se somete a pruebas para confirmar la orientación cristalográfica a lo largo del plano C (0001), garantizando así la uniformidad y consistencia en todos los lotes de producción.

2. Aplicaciones en industrias avanzadas

Sectores punteros como la optoelectrónica, la microelectrónica y la instrumentación de precisión confían a menudo en este tipo de sustrato de cristal de zafiro y óxido de aluminio para lograr un rendimiento superior de los dispositivos. Su robusta integridad estructural y su impecable alineación cristalina permiten una tensión mínima durante el crecimiento epitaxial de semiconductores como el nitruro de galio (GaN). Esta fiabilidad hace que el sustrato sea especialmente útil en la producción de dispositivos de radio de alta frecuencia y LED con mayor eficiencia y gestión del calor.

Durante el procesamiento de las obleas, la excepcional estabilidad térmica y la inercia química del sustrato desempeñan un papel fundamental en el mantenimiento de la fiabilidad de los dispositivos. En electrónica de potencia, su capacidad para soportar temperaturas elevadas sin deformarse ni degradarse contribuye a prolongar su vida útil. Además, su diámetro de 50,8 mm y su grosor de 0,5 mm lo hacen compatible con los equipos de procesamiento estándar de la industria, lo que amplía aún más su campo de aplicación en la investigación moderna de la nanotecnología y la fotónica.