AL10303 Plantilla de nitruro de aluminio pulido por una cara sobre zafiro (0001) Película de AlN de 2 pulgadas x 0,5 mm 5000 nm

Plantilla de nitruro de aluminio pulido por una cara sobre zafiro (0001) Película de AlN de 2 pulgadas x 0,5 mm y 5000 nm Descripción

Este sustrato consiste en una película de nitruro de aluminio (AlN) pulida con precisión sobre un sustrato de zafiro (Al2O3). Las dimensiones de 2 "x 0,5 mm se mantienen con un espesor de película de 5000 nm, lo que garantiza la compatibilidad con las herramientas de procesamiento de semiconductores. La superficie pulida mejora la uniformidad de la interfaz, lo que es fundamental para minimizar los defectos durante la fabricación del dispositivo y los procesos de integración posteriores.

Plantilla de nitruro de aluminio pulido por una cara sobre zafiro (0001) Película de AlN de 2 pulgadas x 0,5 mm y 5000 nm Aplicaciones

1.Electrónica
- Utilizada como capa dieléctrica en circuitos integrados para conseguir una capacitancia controlada aprovechando su acabado superficial uniforme.
- Aplicado en módulos de RF para minimizar la pérdida de señal utilizando el espesor controlado de la película del material.

2.Procesado de semiconductores
- Sirve como sustrato en dispositivos microelectrónicos para mejorar la reproducibilidad del proceso garantizando una interfaz lisa y sin defectos.
- Se utiliza con frecuencia para estructuras de prueba en embalajes avanzados para lograr una uniformidad precisa de la película.

3.Sensores industriales
- Se emplea como componente en conjuntos de sensores para entornos de alta temperatura aprovechando su inercia química y su alta conductividad térmica.
- Aplicado en sistemas ópticos para proporcionar una plataforma estable para la calibración y la consistencia del rendimiento.

Plantilla de nitruro de aluminio pulido por una cara sobre zafiro (0001) Película de AlN de 2 pulgadas x 0,5 mm y 5000 nm Embalaje

El producto se embala en una bandeja antiestática dentro de una caja forrada de espuma para evitar daños mecánicos y contaminación. Se utilizan películas protectoras en la superficie pulida. Se recomienda el almacenamiento en un entorno limpio y a temperatura controlada para mantener la integridad del sustrato. Se pueden realizar embalajes a medida en función de los requisitos específicos de manipulación, etiquetado y transporte.

Preguntas más frecuentes

P1: ¿Qué medidas de control de calidad se integran durante la producción de esta plantilla?
R1: SAM utiliza microscopía óptica y perfilometría para evaluar la uniformidad de la superficie pulida y controlar el espesor de la película. Estas inspecciones sistemáticas ayudan a minimizar los defectos superficiales y garantizan la consistencia dimensional.

P2: ¿Cómo beneficia la estructura del sustrato al procesamiento de semiconductores?
A2: La película uniforme y pulida de AlN depositada sobre zafiro mejora la adherencia de las capas y minimiza los defectos interfaciales. Esto favorece la reproducibilidad del proceso y el rendimiento del dispositivo durante los ciclos de fabricación a alta temperatura.

P3: ¿Es posible personalizar las dimensiones del sustrato o las propiedades de la película?
A3: Sí, es posible personalizar el tamaño del sustrato y el grosor de la película. Se llevan a cabo discusiones detalladas sobre las propiedades deseadas del material y los parámetros de procesamiento para adaptar el sustrato a aplicaciones específicas de semiconductores.

Información adicional

Los sustratos de nitruro de aluminio (AlN) son ampliamente reconocidos en las tecnologías cerámicas avanzadas debido a su alta conductividad térmica y excelentes propiedades de aislamiento eléctrico. La integración de películas de AlN con sustratos de zafiro ofrece un equilibrio entre estabilidad mecánica y rendimiento térmico que beneficia a diversas aplicaciones de dispositivos semiconductores.

Comprender la interacción entre la uniformidad de la película y la compatibilidad del proceso es crucial para optimizar la fabricación de dispositivos. La caracterización detallada del material, incluido el análisis de la rugosidad de la superficie y la densidad de defectos, forma parte integrante de la garantía de que estos sustratos cumplen las estrictas normas del sector.