AL10283 Oblea de zafiro Al2O3 (0001) Dia. 2 pulgadas x 0,5 mm

Oblea de zafiro Al2O3 (0001) Dia. 2 pulgadas x 0,5 mm Descripción

La oblea de zafiro Al2O3 (0001) Dia. 2 pulgadas x 0,5 mm es una oblea de alúmina monocristalina con orientación controlada (0001). El diámetro de 2 pulgadas y el grosor de 0,5 mm garantizan la compatibilidad con los equipos estándar de procesamiento de semiconductores. Su superficie atómicamente plana y su baja densidad de defectos permiten depositar películas epitaxiales de alta precisión. La composición del sustrato (Al2O3) proporciona una excelente resistencia química y estabilidad térmica, lo que lo hace adecuado para la fabricación de dispositivos ópticos y electrónicos avanzados.

Oblea de zafiro Al2O3 (0001) Dia. 2 pulgadas x 0,5 mm Aplicaciones

Electrónica
- Se utiliza como sustrato en dispositivos semiconductores para lograr un crecimiento uniforme de la capa epitaxial aprovechando la orientación cristalográfica controlada (0001) de la oblea.
- Se aplica en la producción de LED para favorecer la deposición de películas de alta calidad gracias a su superficie atómicamente lisa.

Industrial
- Utilizado como barrera dieléctrica en sensores de alta temperatura para mantener la estabilidad del rendimiento aprovechando la resistencia química y térmica del Al2O3.
- Se emplea como sustrato de precisión en dispositivos ópticos para garantizar unas propiedades de transmisión de la luz constantes gracias a su baja densidad de defectos.

Oblea de zafiro Al2O3 (0001) Dia. 2 pulgadas x 0,5 mm Embalaje

Las obleas se fijan individualmente en soportes antiestáticos de grado sala limpia y se acolchan con inserciones de espuma para evitar daños mecánicos. Posteriormente se sellan en bolsas de atmósfera inerte para minimizar la contaminación por humedad y partículas. El proceso de envasado incorpora revestimientos antiarañazos y etiquetas para la trazabilidad. Se recomienda el almacenamiento en condiciones de temperatura y humedad controladas, con opciones de personalización disponibles para requisitos de manipulación específicos.

Preguntas más frecuentes

P1: ¿Cómo controla SAM la densidad de defectos en estas obleas de zafiro?
R1: SAM emplea técnicas cuantitativas de metrología superficial, como la microscopía electrónica de barrido y la microscopía de fuerza atómica, para supervisar y controlar la densidad de defectos. Esto garantiza que la oblea mantenga la estricta planitud y uniformidad necesarias para los procesos epitaxiales de alta precisión en aplicaciones avanzadas de semiconductores.

P2: ¿Qué medidas se toman durante la fabricación para conseguir la orientación (0001)?
A2: El proceso de producción implica el crecimiento controlado de cristales utilizando alúmina de gran pureza con estrictos procedimientos de alineación de la orientación. Los tratamientos térmicos especializados y las mediciones de difracción de rayos X en línea garantizan que la oblea final muestre sistemáticamente la orientación (0001) necesaria para la integración fiable del dispositivo.

P3: ¿Cuáles son las condiciones de almacenamiento recomendadas para estas obleas?
R3: Las obleas deben almacenarse en un entorno limpio, con temperatura controlada y baja humedad, idealmente en contenedores antiestáticos. De este modo se minimiza la exposición a la humedad y a contaminantes que podrían comprometer la integridad de la superficie y el rendimiento durante el procesamiento posterior.

Información adicional

La alúmina (Al2O3) es ampliamente reconocida en la ciencia de los materiales por su estabilidad térmica e inercia química, lo que hace de las obleas de zafiro un componente integral en muchos procesos de fabricación electrónica y óptica. La orientación controlada (0001) no sólo optimiza las propiedades de la superficie, sino que también mejora la compatibilidad con las técnicas de deposición de películas finas, algo crucial para la fabricación de dispositivos modernos.

El riguroso control de la orientación de los cristales y el acabado superficial de estos sustratos es fundamental para avanzar en las aplicaciones de alto rendimiento. Comprender la interacción entre las condiciones de procesamiento y las propiedades de los materiales ayuda a impulsar las innovaciones en la tecnología de semiconductores y otros entornos de procesamiento a alta temperatura.