AL10282 Oblea de zafiro Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0,65 mm

Oblea de zafiro Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0,65 mm Descripción

La oblea de zafiro Al2O3 (0001) de 100 mm de diámetro x 0,65 mm es un sustrato cristalino fabricado con precisión y compuesto de óxido de aluminio. La orientación definida (0001) y las estrechas tolerancias dimensionales permiten la compatibilidad con equipos estándar de procesamiento de semiconductores. Su grosor uniforme y su baja densidad de defectos facilitan las deposiciones epitaxiales de alta precisión y la fabricación de dispositivos microelectrónicos, apoyando los procesos avanzados de investigación y desarrollo de materiales.

Oblea de zafiro Al2O3 (0001) 100 mm de diámetro x 0,65 mm Aplicaciones

Electrónica
- Utilización como sustrato en dispositivos semiconductores para lograr una deposición epitaxial uniforme aprovechando su orientación cristalográfica controlada (0001).

Optoelectrónica
- Aplicado como material base en la fabricación de LED y diodos láser para mejorar la claridad óptica aprovechando su alta transmitancia óptica y la planitud precisa de su superficie.

Investigación científica
- Se utiliza como plataforma de pruebas para estudios de materiales avanzados con el fin de lograr bajas densidades de dislocación aprovechando su estructura cristalina consistente y su espesor uniforme.

Oblea de zafiro Al2O3 (0001) 100 mm de diámetro x 0,65 mm Embalaje

Las obleas se fijan individualmente en soportes acolchados antiestáticos y se colocan en bandejas rígidas compatibles con salas limpias. Se embalan con materiales resistentes a la humedad para evitar la contaminación. Las recomendaciones de almacenamiento incluyen un entorno seco con temperatura controlada. Existen opciones de etiquetado personalizado y embalaje compartimentado para cumplir protocolos específicos de almacenamiento y manipulación.

Preguntas más frecuentes

P1: ¿Cómo garantiza SAM la planitud de la superficie de la oblea y el control de defectos?
R1: SAM emplea interferometría óptica e inspección SEM durante el procesamiento para medir la planitud de la superficie y controlar la densidad de defectos, garantizando que cada oblea cumpla estrictos criterios de rendimiento para los procesos de fabricación posteriores.

P2: ¿Qué medidas se toman para evitar la contaminación durante la manipulación de las obleas?
A2: Las obleas se procesan en condiciones de sala blanca y se embalan en contenedores antiestáticos y resistentes a la humedad. Estas medidas minimizan la caída de partículas y la contaminación superficial, preservando la integridad estructural de la oblea.

P3: ¿Cómo afectan las tolerancias dimensionales al procesamiento posterior?
A3: La uniformidad del diámetro y el grosor influye directamente en la uniformidad del proceso de deposición epitaxial. Las tolerancias estrictas garantizan la compatibilidad con las herramientas de procesamiento estándar, reduciendo la variabilidad en la fabricación de dispositivos.

Información adicional

El óxido de aluminio (Al2O3) desempeña un papel fundamental en diversas aplicaciones de alto rendimiento debido a su inercia química y sus excelentes propiedades térmicas. Los sustratos de zafiro se utilizan ampliamente en dispositivos semiconductores y ópticos en los que son esenciales una uniformidad microestructural precisa y bajas densidades de defectos.

Los métodos de fabricación avanzados, como la deposición química de vapor y la perfilometría de superficie, permiten controlar con precisión la orientación y el grosor de los cristales. Esta precisión es vital para aplicaciones en microelectrónica e investigación de materiales, donde incluso pequeñas variaciones pueden afectar al rendimiento general del dispositivo.