AL10277 Oblea de zafiro Al2O3 Plano C (0001) Dia. 2 pulgadas x 0,5 mm

Oblea de zafiro Al2O3 Plano C (0001) Dia. 2 pulgadas x 0,5 mm Descripción

La oblea de zafiro Al2O3 C-plane (0001) Dia. 2 pulgadas x 0,5 mm se fabrica a partir de óxido de aluminio de gran pureza con una orientación superficial definida (0001), lo que garantiza una estructura uniforme y controlada. El diámetro de 2 pulgadas con un grosor de 0,5 mm admite la compatibilidad con equipos convencionales de procesamiento de semiconductores. La inercia química y la estabilidad mecánica inherentes al Al2O3 hacen que esta oblea sea adecuada para aplicaciones precisas que requieren una baja densidad de defectos y un rendimiento constante.

Oblea de zafiro Al2O3 Plano C (0001) Dia. 2 pulgadas x 0,5 mm Aplicaciones

1.Electrónica
- Se utiliza como sustrato en circuitos de alta frecuencia para reducir la pérdida de señal aprovechando la uniformidad cristalográfica controlada de la oblea.
- Se aplica en conjuntos de sensores para garantizar un aislamiento eléctrico uniforme aprovechando la inercia química del Al2O3.

2.Industrial
- Utilizado en conjuntos de LED para gestionar el calor aprovechando la conductividad térmica inherente al material.
- Se emplea en instrumentos ópticos como capa base estable para minimizar la dispersión de la luz gracias a su acabado superficial uniforme.

Oblea de zafiro Al2O3 Plano C (0001) Dia. 2 pulgadas x 0,5 mm Embalaje

La oblea se sujeta en un contenedor antiestático con acolchado de espuma para mitigar los impactos mecánicos durante el transporte. Se introduce en un sobre sellado a prueba de polvo y se mantiene en condiciones de temperatura controlada y baja humedad hasta su posterior procesamiento. Otras opciones son el sellado al vacío y las inserciones compartimentadas personalizadas para reducir aún más los riesgos de contaminación y facilitar una manipulación segura durante el almacenamiento y el transporte.

Preguntas más frecuentes

P1: ¿Cómo se valida la precisión cristalográfica de la oblea?
R1: Se emplean técnicas de difracción de rayos X de alta resolución e imágenes de superficie para verificar la orientación (0001) y la uniformidad. Estos métodos garantizan que la oblea cumple las estrictas especificaciones de procesamiento para aplicaciones de semiconductores.

P2: ¿Qué condiciones de almacenamiento se recomiendan para esta oblea?
A2: La oblea debe almacenarse en un entorno de temperatura estable y baja humedad utilizando un embalaje antiestático. Esto minimiza el riesgo de contaminación y ayuda a mantener la integridad estructural y química del material.

P3: ¿Es compatible la oblea con las herramientas estándar de procesamiento de semiconductores?
R3: Con un diámetro de 2 pulgadas y un grosor de 0,5 mm, la oblea suele ser compatible con los equipos convencionales de procesamiento de semiconductores. Se recomienda a los ingenieros que confirmen las tolerancias de los equipos para garantizar una integración adecuada.

Información adicional

Los sustratos de zafiro, compuestos de Al2O3, se utilizan ampliamente en aplicaciones ópticas y de semiconductores debido a su inercia química y propiedades térmicas. La orientación definida (0001) favorece el rendimiento de los dispositivos al proporcionar una superficie uniforme, lo que es fundamental para minimizar los defectos durante las fases de procesamiento posteriores.

Los avances en la caracterización de materiales y las técnicas de procesamiento siguen mejorando la calidad de las obleas de zafiro. Los esfuerzos de investigación se centran en mejorar el acabado superficial y reducir la densidad de defectos para permitir su integración en la electrónica de precisión y las tecnologías de sensores, apoyando así los desarrollos en múltiples sectores industriales.