AL10272 Oblea de zafiro Al2O3 Plano C (0001) Dia. 3 pulgadas x 0,5 mm

Oblea de zafiro Al2O3 Plano C (0001) Dia. 3 pulgadas x 0,5 mm Descripción

Esta oblea se compone de Al2O3 monocristalino, conocido por su alto punto de fusión y estabilidad química. La orientación del plano C (0001) garantiza una superficie lisa y uniforme, esencial para la deposición uniforme de películas finas y la fabricación de dispositivos. El diámetro de 3 pulgadas y el grosor de 0,5 mm se mantienen con tolerancias ajustadas para adaptarse a los equipos estándar de procesamiento de semiconductores. Las propiedades del material permiten aplicaciones que requieren una elevada rigidez dieléctrica y resistencia al choque térmico.

Oblea de zafiro Al2O3 Plano C (0001) Diám. 3 pulgadas x 0,5 mm Aplicaciones

1.Electrónica y fabricación de semiconductores
- Utilizado como sustrato en circuitos integrados para lograr un crecimiento uniforme de la película aprovechando su orientación cristalográfica constante.
- Aplicado como plataforma para capas epitaxiales en la fabricación de LED para mejorar el rendimiento del dispositivo mediante propiedades superficiales controladas.

2.Optoelectrónica y sensores
- Sirve de base en sensores ópticos para mejorar la uniformidad de la señal utilizando su baja rugosidad superficial.
- Se emplea en dispositivos fotónicos para facilitar la transmisión uniforme de la luz aprovechando la gran transparencia y estabilidad química del material.

Oblea de zafiro Al2O3 plano C (0001) Dia. 3 pulgadas x 0,5 mm Embalaje

La oblea se sujeta individualmente en un embalaje antiestático apto para salas limpias con el fin de minimizar la contaminación por partículas y los daños mecánicos. El embalaje se cierra con un sobre inerte resistente a la humedad para mantener la integridad de la superficie durante el transporte y el almacenamiento. Las directrices de manipulación ayudan a mantener el estado prístino de la oblea, y existen opciones de personalización para protocolos de manipulación específicos.

Preguntas más frecuentes

P1: ¿Qué medidas se aplican para controlar la uniformidad cristalográfica de la oblea?
R1: El proceso de fabricación incluye un recocido controlado a alta temperatura e inspecciones con microscopía de fuerza atómica en línea para evaluar la uniformidad de la superficie y detectar cualquier desviación en la orientación (0001).

P2: ¿Cómo influye la tolerancia de grosor de la oblea en la fabricación del dispositivo?
A2: Un grosor constante de 0,5 mm garantiza la compatibilidad con los equipos estándar y una alineación precisa durante la fotolitografía, reduciendo así las variaciones del proceso y mejorando el rendimiento del dispositivo.

P3: ¿Qué condiciones de almacenamiento se recomiendan para preservar las propiedades de la oblea?
R3: La oblea debe almacenarse en un entorno de baja humedad y temperatura regulada dentro de un embalaje antiestático para evitar la contaminación de la superficie y las tensiones estructurales que podrían afectar a su rendimiento.

Información adicional

Las obleas de óxido de aluminio (Al2O3) son sustratos esenciales en diversos entornos corrosivos y de alta temperatura debido a su excelente estabilidad térmica e inercia química. La orientación controlada del plano C es fundamental para las aplicaciones que requieren una energía superficial uniforme, lo que influye en la adhesión de la película y en el crecimiento epitaxial.

Comprender la importancia de la orientación cristalográfica en los sustratos de zafiro puede ayudar a los investigadores a optimizar las técnicas de deposición y perfeccionar las arquitecturas de los dispositivos. Estos conocimientos son valiosos para el desarrollo de sistemas semiconductores y optoelectrónicos avanzados, en los que las propiedades del material repercuten directamente en la eficacia operativa.