AL10266 Oblea de zafiro Al2O3 R plano 10x10x1,0 mm

Oblea de zafiro Al2O3 plano R 10x10x1,0 mm Descripción

La oblea de zafiro Al2O3 plano R 10x10x1,0 mm es un sustrato de Al2O3 monocristalino de gran pureza con una orientación del plano R bien definida. Las dimensiones de 10x10x1,0 mm garantizan la compatibilidad con los equipos estándar de procesamiento de semiconductores. La oblea presenta una superficie plana uniforme y una baja densidad de defectos, lo que mejora su rendimiento como sustrato en la fabricación de diversos dispositivos. Su inercia química y estabilidad térmica son cruciales para las aplicaciones microelectrónicas avanzadas.

Oblea de zafiro Al2O3 R plano 10x10x1,0 mm Aplicaciones

Aplicaciones en electrónica y semiconductores
- Utilizado como sustrato en la fabricación de semiconductores para conseguir interfaces con pocos defectos aprovechando su elevada inercia química.
- Aplicado como capa aislante en circuitos de RF para mejorar la integridad de la señal utilizando sus propiedades dieléctricas consistentes.

Aplicaciones industriales
- Se utiliza como componente de precisión en ensamblajes de sensores para garantizar una transducción de señales precisa, aprovechando su orientación cristalográfica uniforme.
- Aplicado en el embalaje de dispositivos microelectrónicos para proporcionar una base estable, reduciendo los posibles desajustes térmicos durante el funcionamiento.

Oblea de zafiro Al2O3 R plano 10x10x1,0 mm Embalaje

La oblea se embala en un contenedor antiestático con acolchado de espuma dentro de una caja sellada para minimizar los choques mecánicos y la contaminación por partículas. Se incluye un indicador de humedad y el embalaje está diseñado para mantener un entorno controlado. El embalaje permite una manipulación segura durante el transporte y el almacenamiento en condiciones de temperatura y humedad controladas. Existen opciones de embalaje personalizadas para satisfacer requisitos de manipulación específicos.

Preguntas más frecuentes

P1: ¿Qué importancia tiene la orientación del plano R en esta oblea de zafiro?
R1: La orientación del plano R produce una superficie con pasos atómicos reducidos y mayor planitud. Esto minimiza la posibilidad de defectos superficiales y optimiza las condiciones de la interfaz, vitales para la estratificación de semiconductores y la fabricación de dispositivos.

P2: ¿Cómo se mantiene la tolerancia dimensional en la oblea de 10x10x1,0 mm?
A2: La tolerancia dimensional se consigue mediante técnicas de corte y pulido de precisión, combinadas con metrología en línea. Estas medidas garantizan que la oblea cumpla los estrictos requisitos dimensionales necesarios para su integración con equipos de procesamiento estándar.

P3: ¿Qué medidas de control de calidad se aplican durante la producción?
A3: El control de calidad incluye análisis cristalográficos, inspección de la superficie mediante microscopía y evaluaciones de la uniformidad del espesor. Estas comprobaciones verifican la consistencia de la oblea y permiten minimizar los defectos, garantizando que cumple las normas exigidas para las aplicaciones avanzadas.

Información adicional

Los sustratos basados en óxido de aluminio son fundamentales para la microelectrónica moderna debido a su excepcional estabilidad térmica y propiedades de aislamiento eléctrico. Las obleas de zafiro se utilizan ampliamente en los procesos de deposición de películas finas y sirven de base fundamental para el crecimiento epitaxial en la fabricación de semiconductores. Sus propiedades cristalográficas únicas contribuyen a la uniformidad del rendimiento de los dispositivos.

Los avances en la fabricación de obleas siguen mejorando el acabado superficial y la precisión dimensional, que son esenciales para las aplicaciones de alta frecuencia y optoelectrónicas. La integración de técnicas de corte precisas y sistemas automatizados de control de calidad desempeña un papel fundamental en la reducción de defectos y la mejora del rendimiento general de las obleas en arquitecturas de dispositivos complejas.