AL10254 Oblea de zafiro Al2O3 A plano (11-20) 10x10x1,0 mm

Oblea de zafiro Al2O3 A plano (11-20) 10x10x1,0 mm Descripción

La oblea de zafiro Al2O3 A plano (11-20) 10x10x1,0 mm es un sustrato fabricado a partir de óxido de aluminio de gran pureza (Al2O3, CAS 1344-28-1) con una orientación definida A plano (11-20). Su superficie de 10 mm x 10 mm y su grosor de 1,0 mm garantizan la conformidad con los equipos estándar de procesamiento de semiconductores. La orientación controlada favorece la deposición uniforme de capas y la mejora de las propiedades eléctricas en la fabricación de dispositivos avanzados.

Oblea de zafiro Al2O3 Plano A (11-20) 10x10x1,0 mm Aplicaciones

1.
Aplicaciones electrónicas
- Utilizado como sustrato en dispositivos semiconductores para lograr un crecimiento epitaxial uniforme aprovechando su precisa orientación en el plano A (11-20).
- Aplicado como base dieléctrica en circuitos de RF para mejorar la integridad de la señal utilizando su baja densidad de defectos y su composición estable.

2.
Aplicaciones industriales
- Sirve como elemento base en módulos sensores para proporcionar estabilidad térmica empleando su alta pureza e inercia química.
- Se utiliza con frecuencia en sistemas ópticos de precisión para mantener la exactitud dimensional y reducir los efectos de dispersión gracias a su estructura cristalográfica controlada.

Oblea de zafiro Al2O3 Plano A (11-20) 10x10x1,0 mm Embalaje

La oblea se embala individualmente en un soporte antiestático de grado sala limpia y se amortigua con inserciones de espuma para minimizar las vibraciones. El almacenamiento debe realizarse en un entorno con temperatura y humedad controladas. Existen opciones de embalaje personalizadas para satisfacer requisitos específicos de procesamiento y manipulación.

Preguntas más frecuentes

P1: ¿Cómo influye la orientación del plano A (11-20) de la oblea en la fabricación del dispositivo?
R1: La orientación del plano A (11-20) favorece la deposición epitaxial uniforme y minimiza las densidades de dislocación, lo que es fundamental para un rendimiento uniforme en dispositivos semiconductores y ópticos.

P2: ¿Qué protocolos de manipulación se recomiendan para estas obleas de zafiro?
A2: Se aconseja la manipulación en un entorno de sala limpia utilizando herramientas antiestáticas para evitar la contaminación por partículas y los daños físicos. Se recomienda un contacto mínimo con los dedos utilizando pinzas o herramientas de vacío para mantener la integridad de la superficie.

P3: ¿Son fijas las especificaciones dimensionales de esta oblea?
R3: Las dimensiones estándar son 10x10x1,0 mm; no obstante, es posible que se puedan personalizar en función de las capacidades de producción y las exigencias específicas del proceso. Se recomienda consultar a SAM para obtener información más detallada.

Información adicional

El zafiro, u óxido de aluminio cristalino, destaca por su dureza, estabilidad térmica e inercia química. Estas propiedades lo convierten en el material preferido para sustratos utilizados en entornos de alta temperatura y alta tensión. Las orientaciones cristalográficas definidas ofrecen una uniformidad notable, lo que ayuda a los procesos precisos de fabricación de dispositivos.

En la ciencia de los materiales, la síntesis controlada de obleas de zafiro desempeña un papel importante en diversas aplicaciones de alto rendimiento. Comprender la interacción entre la orientación cristalográfica, la pureza y la precisión dimensional es esencial para lograr resultados óptimos de procesamiento en las industrias de semiconductores, óptica y sensores.