AL10241 Oblea de zafiro Al2O3 Plano C (0001) 5x5x0,5 mm

Oblea de zafiro Al2O3 plano C (0001) 5x5x0,5 mm Descripción

La oblea de zafiro Al2O3 C-plane (0001) 5x5x0,5 mm se fabrica a partir de óxido de aluminio monocristalino (Al2O3) y presenta una orientación (0001). Las dimensiones de 5 mm x 5 mm y el grosor de 0,5 mm permiten su integración en procesos de ensamblaje de semiconductores y ópticos. Su orientación cristalográfica definida garantiza una superficie lisa y una densidad de dislocaciones reducida. El producto se caracteriza por unas condiciones de crecimiento controladas, verificadas mediante difracción de rayos X y perfilometría de superficie.

Oblea de zafiro Al2O3 Plano C (0001) 5x5x0,5 mm Aplicaciones

1.Electrónica
- Utilizado como sustrato en circuitos integrados para conseguir propiedades dieléctricas uniformes aprovechando su precisa orientación cristalográfica y su superficie plana.
- Se aplica como capa aislante en dispositivos microelectrónicos para minimizar las interferencias eléctricas gracias a su estructura estable de Al2O3.

2.Óptica
- Sirve como ventana óptica en sistemas láser para mantener la claridad y la consistencia gracias a su baja densidad de defectos.
- Se utiliza en dispositivos fotónicos como material base para reducir las pérdidas por dispersión y mejorar el rendimiento general del dispositivo.

Oblea de zafiro Al2O3 plano C (0001) 5x5x0,5 mm Embalaje

Cada oblea de zafiro está sellada individualmente en una bolsa antiestática y colocada en un contenedor acolchado para evitar daños mecánicos y contaminación. El embalaje emplea inserciones de espuma para limitar la entrada de partículas. Almacene en un entorno con temperatura y humedad controladas para mantener la integridad del material. Existen opciones de envasado personalizadas, que incluyen etiquetado adicional y compartimentación, para satisfacer requisitos específicos de manipulación y almacenamiento.

Preguntas más frecuentes

P1: ¿Cómo influye la orientación del plano C en el procesamiento de las obleas?
R1: La orientación del plano C (0001) proporciona una superficie uniforme y atómicamente lisa, lo que contribuye a la precisión de los procesos de litografía y deposición al reducir la densidad de dislocaciones. Esta orientación garantiza la uniformidad en los siguientes pasos de fabricación de dispositivos.

P2: ¿Qué medidas de control de calidad se utilizan durante la producción de obleas?
A2: El control de calidad incluye la difracción de rayos X (DRX) para verificar la orientación cristalográfica y la perfilometría de superficie para evaluar la planitud y los niveles de defectos. Estas pruebas confirman que la oblea cumple las estrictas especificaciones requeridas para las aplicaciones de semiconductores.

P3: ¿Es posible personalizar las dimensiones o el grosor de las obleas?
R3: Las opciones de personalización pueden estar disponibles en función de las capacidades de producción. Los ajustes específicos de dimensiones o grosor requieren un análisis de la viabilidad del proceso y las modificaciones de control de calidad asociadas.

Información adicional

El zafiro, como forma de Al2O3 monocristalino, desempeña un papel fundamental en la ciencia de los materiales debido a su inercia química, alta estabilidad térmica y excelentes propiedades de aislamiento eléctrico. Su estructura dura y estable lo convierte en un sustrato atractivo para aplicaciones de alta precisión en las industrias óptica y de semiconductores.

Comprender las implicaciones de la orientación cristalográfica en las obleas de zafiro es esencial para optimizar el rendimiento de los dispositivos. Los métodos de caracterización detallada, como la DRX y la perfilometría de superficie, garantizan que estos sustratos cumplan las rigurosas normas exigidas para los procesos de fabricación avanzados.