Oblea de zafiro Al2O3 plano C (0001) 10x10x0,5 mm Descripción

Sapphire Wafer Al2O3 C-plane (0001) 10x10x0,5 mm consiste en un sustrato monocristalino de Al2O3 con una orientación precisa (0001). Sus dimensiones permiten la integración con equipos estándar de fabricación de semiconductores. La inercia química y la estabilidad térmica inherentes al zafiro lo convierten en una barrera eficaz contra la oxidación. El grosor uniforme de la oblea y su superficie bien pulida permiten controlar el procesamiento de los dispositivos y evaluar con precisión su rendimiento en aplicaciones avanzadas.

Oblea de zafiro Al2O3 plano C (0001) 10x10x0,5 mm Aplicaciones

Aplicaciones electrónicas y semiconductores
- Utilizado como sustrato en la fabricación de LED para lograr una disipación uniforme del calor aprovechando la alta conductividad térmica del zafiro.
- Aplicado como material base en dispositivos semiconductores de potencia para lograr un rendimiento eléctrico estable aprovechando su inercia química.

Optoelectrónica
- Se utiliza como componente en ensamblajes de diodos láser para conseguir una dispersión óptica mínima aprovechando su superficie lisa y sin defectos.
- Se emplea en sistemas de sensores ópticos para lograr una transmisión precisa de la señal aprovechando la estructura cristalográfica estable del material.

Oblea de zafiro Al2O3 plano C (0001) 10x10x0,5 mm Embalaje

La oblea se embala en un contenedor rígido antiestático con inserciones acolchadas para evitar daños mecánicos y minimizar la contaminación por partículas. Se almacena en condiciones de temperatura y humedad controladas para mantener la integridad de la superficie. Existen opciones de envasado personalizadas, como bolsas con barrera contra la humedad y sellado individual, para satisfacer los requisitos específicos de manipulación durante el transporte y el almacenamiento.

Preguntas más frecuentes

P1: ¿Qué ventajas ofrece la orientación C-plane (0001)?
R1: La orientación (0001) proporciona una disposición atómica uniforme que facilita los procesos controlados de fabricación de dispositivos. Esta uniformidad garantiza una superficie consistente para la posterior deposición de películas finas y la creación de patrones, reduciendo la variabilidad durante las operaciones a alta temperatura.

P2: ¿Cómo debe manipularse la oblea para mantener la integridad de su superficie?
A2: Manipule la oblea con herramientas no abrasivas y utilice guantes antiestáticos para evitar la contaminación de la superficie y los microarañazos. Debe limpiarse en un entorno controlado utilizando disolventes adecuados para evitar la acumulación de residuos en la superficie altamente pulida.

P3: ¿Existen condiciones de almacenamiento específicas recomendadas para esta oblea?
R3: La oblea debe almacenarse en un entorno limpio, con temperatura controlada y humedad mínima. El uso de un contenedor sellado antiestático ayuda a evitar la contaminación por partículas y la tensión mecánica, preservando las propiedades estructurales y superficiales de la oblea.

Información adicional

El zafiro es una forma cristalina de óxido de aluminio (Al2O3) conocida por su baja densidad de defectos y su alta estabilidad térmica. Estas propiedades lo convierten en una elección habitual en sustratos utilizados para el procesamiento de dispositivos a alta temperatura y aplicaciones optoelectrónicas. Su inercia química también proporciona una plataforma estable para las capas de deposición posteriores en la fabricación de semiconductores.

La síntesis controlada y la supervisión de la calidad de las obleas de zafiro han evolucionado considerablemente gracias a los avances en la deposición química de vapor y la metrología de superficies. Estas mejoras permiten un control preciso de la orientación cristalográfica y el acabado superficial, que son fundamentales para las aplicaciones en dispositivos electrónicos y ópticos, y garantizan que el material cumpla los estrictos requisitos de integración.