IF5688 (Descatalogado) Horno tubular 1200C con mecanismo de desplazamiento interno para HPCVD OTF-1200X-S-HPCVD

Catálogo No.	IF5688
Número de artículo	OTF-1200X-S-HPCVD
Temperatura de funcionamiento	1100℃ continuamente
Temperatura de funcionamiento	≤ 1200℃, ≤1hora

Descatalogado

Elhorno tubular 1200C es un horno tubular compacto de 2" con un sistema de desplazamiento interno de la muestra dentro del tubo de procesamiento. Stanford Advanced Materials (SAM) cuenta con una amplia experiencia en la fabricación y el suministro de hornos tubulares compactos de alta calidad.

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Características	Estructura de carcasa de doble capa con sistema de refrigeración por aire, que puede reducir eficazmente la temperatura de la superficie de la carcasa Revestimiento de óxido de aluminio para mejorar la eficiencia de calentamiento del equipo
Temperatura de trabajo	Temperatura máxima de calentamiento 1200℃ (≤30min) Temperatura de funcionamiento: 1100℃
Parámetros básicos	Elemento calefactor: Aleación Mo-Fe-Cr-Al
Potencia	220V AC, 2 KW, 50/60 Hz
Control de temperatura	Control automático PID mediante relé de estado sólido con 30 pasos programables Protección integrada contra sobretemperatura y fallo del termopar Precisión de +/-1°C Par térmico tipo K Longitud de la zona de calentamiento: 200 mm (8") Zona de temperatura constante: 60 mm (+/-1°C @ 1000 °C)
Sellado de vacío	Brida de sujeción rápida de 2" con racores de 1/4'', vacuómetro así como válvula de aguja en el lado derecho La brida derecha está conectada a un fuelle de acero inoxidable extensible hasta 150 mm. Brida izquierda con conexión de vacío de sujeción rápida KF25 y válvula de purga de 1/4'' con espiga Máx. Nivel de vacío: 10E-2 torr con bomba mecánica y 10-E5 con turbobomba
Garantía	Un año de garantía limitada con asistencia de por vida. ATENCIÓN: Los daños causados por el uso de gases corrosivos y ácidos no están cubiertos por la garantía limitada de un año de SAM.
Certificado	Certificado CE Certificación NRTL o CSA disponible con coste adicional.

Características	Estructura de carcasa de doble capa con sistema de refrigeración por aire, que puede reducir eficazmente la temperatura de la superficie de la carcasa Revestimiento de óxido de aluminio para mejorar la eficiencia de calentamiento del equipo
Temperatura de trabajo	Temperatura máxima de calentamiento: 1200℃ (≤30min) Temperatura de funcionamiento: 1100℃
Parámetros básicos	Elemento calefactor: Aleación Mo-Fe-Cr-Al
Potencia	220V AC, 2 KW, 50/60 Hz
Control de temperatura	Control automático PID mediante relé de estado sólido con 30 pasos programables Protección integrada contra sobretemperatura y fallo del termopar Precisión de +/-1°C Par térmico tipo K Longitud de la zona de calentamiento: 200 mm (8") Zona de temperatura constante: 60 mm (+/-1°C @ 1000 °C)
Sellado de vacío	Brida de sujeción rápida de 2" con racores de 1/4'', vacuómetro así como válvula de aguja en el lado derecho La brida derecha está conectada a un fuelle de acero inoxidable extensible hasta 150 mm. Brida izquierda con conexión de vacío de sujeción rápida KF25 y válvula de purga de 1/4'' con espiga Máx. Nivel de vacío: 10E-2 torr con bomba mecánica y 10-E5 con turbobomba
Garantía	Un año de garantía limitada con asistencia de por vida. ATENCIÓN: Los daños causados por el uso de gases corrosivos y ácidos no están cubiertos por la garantía limitada de un año de SAM.
Certificado	Certificado CE Certificación NRTL o CSA disponible con coste adicional.

IF5688 (Descatalogado) Horno tubular 1200C con mecanismo de desplazamiento interno para HPCVD OTF-1200X-S-HPCVD

Descatalogado

Horno tubular 1200C con mecanismo de desplazamiento interno OTF-1200X-S-HPCVD Descripción

Especificaciones del horno tubular de 1200C con mecanismo de desplazamiento interno OTF-1200X-S-HPCVD

Horno tubular de 1200C con mecanismo de desplazamiento interno OTF-1200X-S-HPCVD Aplicaciones

Horno tubular de 1200C con mecanismo de desplazamiento interno OTF-1200X-S-HPCVD Embalaje

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