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    • Óxido de tántalo y itrio amorfo térmicamente estable con baja absorción IR para dispositivos magnetofotónicos

    Título Óxido de tántalo y itrio amorfo térmicamente estable con baja absorción IR para dispositivos magnetofotónicos
    Autores Takuya Yoshimoto, Taichi Goto, Hiroyuki Takagi, Yuchi Nakamura, Hironaga Uchida, Caroline A. Ross, Mitsuteru Inoue
    Revista Informes científicos
    Fecha 10/23/2017
    DOI 10.1038/s41598-017-14184-4
    Introducción Los materiales de óxido de capa fina suelen requerir un tratamiento térmico a alta temperatura durante su preparación, lo que limita su integración en dispositivos microelectrónicos u ópticos. Mantener las propiedades ópticas de los espejos de Bragg por encima de 700 °C es un reto debido a los cambios en la estructura cristalina. Este estudio presenta una película amorfa de ~100 nm de óxido de tántalo y óxido de itrio con una fracción atómica de itrio-tántalo del 14%, preparada mediante pulverización catódica por magnetrón. Muestra una alta resistencia al recocido por encima de 850°C, conservando las propiedades ópticas. Se analizan las estructuras electrónica y cristalina, la estequiometría y las propiedades ópticas de la película, así como su integración con materiales magnetoópticos. Incorporada a espejos de Bragg con microcavidades de granate de hierro, mejora significativamente la figura de mérito magnetoóptica en longitudes de onda del infrarrojo cercano.
    Cita Takuya Yoshimoto, Taichi Goto y Hiroyuki Takagi et al. Óxido de tantalio y itrio amorfo térmicamente estable con baja absorción IR para dispositivos magnetofotónicos. Sci Rep. 2017. Vol. 7. DOI: 10.1038/s41598-017-14184-4
    Elemento Tántalo (Ta) , Itrio (Y) , Oxígeno (O)
    Materiales Óxidos
    Industria Óptica
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