Descripción del grafeno monocapa CVD
El grafeno monocapa CVDsobre sustrato de cobre/cu se refiere a un método específico de síntesis de grafeno, una única capa de átomos de carbono dispuestos en una red hexagonal, sobre una superficie de cobre mediante técnicas de deposición química de vapor.
El grafeno monocapa se refiere a una sola capa de átomos de carbono dispuestos en una estructura reticular en forma de panal. Esta estructura monocapa es muy codiciada por sus propiedades eléctricas, térmicas y mecánicas únicas, que difieren significativamente del grafito en masa u otras formas de carbono.
Las láminas o películas finas de cobre (Cu) suelen utilizarse como sustrato para el crecimiento del grafeno mediante CVD. El cobre facilita la descomposición catalítica de gases que contienen carbono y actúa como plantilla para la formación de grafeno. Tras la síntesis, la capa de grafeno puede transferirse del sustrato de cobre a otros materiales para diversas aplicaciones.
Especificación del grafeno monocapa CVD
Método de crecimiento
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CVD (deposición química de vapor)
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Aspecto
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Transparente
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Transparencia
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>97%
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Cobertura
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>95%
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Espesor (teórico)
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0,345 nm
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Espesor AFM
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<1 nm
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Movilidad de electrones en SiO2/Si
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≈1500 cm2/V-s
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Resistencia de lámina en SiO2/Si
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350±40 Ohmios/cuadrado (1cm x1cm)
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Tamaño de grano
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Hasta 20 μm
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Espesor de la lámina de Cu
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18 μm
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Rugosidad
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~80 nm
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Aplicaciones del grafeno monocapa CVD
- Electrónica: Como electrodos conductores transparentes en pantallas y células solares.
- Sensores: Por su elevada superficie y sensibilidad.
- Materiales compuestos: Para mejorar la resistencia mecánica y la conductividad.
- Investigación: Para estudiar las propiedades fundamentales del grafeno.
Embalaje del grafeno monocapa CVD
Elgrafeno monocapa CVD se manipula cuidadosamente durante el almacenamiento y el transporte para preservar la calidad de nuestro producto en su estado original.