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  • GR5855 Monocapa de grafeno CVD sobre sustrato SiO2

    • GR5855 Monocapa de grafeno CVD sobre sustrato SiO2

    Catálogo No. GR5855
    Dimensiones 5cm*5cm
    Material SiO2 / Cu

    Elgrafeno monocapa sobre sustrato de SiO2 se refiere a un método específico de síntesis de grafeno, una sola capa de átomos de carbono dispuestos en una red hexagonal, sobre una superficie de cobre mediante técnicas de deposición química de vapor. Stanford Advanced Materials (SAM) es experta en suministrar grafeno monocapa de gran pureza a precios competitivos.

    CONSULTA
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    CVD Monolayer Graphene on SiO2 Substrate
    CVD Monolayer Graphene on SiO2 Substrate
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    SDS
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    GR5855 Monocapa de grafeno CVD sobre sustrato SiO2
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    Dimensiones
    5cm*5cm
    Material
    SiO2 / Cu
     
    OX0173 Nanopolvo de óxido de grafeno
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    Espesor
    0,7~1,2nm
    Estándar
    Método Hummers
    Pureza
    >99%
    Formulario
    Nanopolvo
    M.O.Q
    500 g
     
    OX0174 Óxido de grafeno (5mg/mL, dispersión acuosa)
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    Dimensiones
    10 ~ 50 um
    Espesor
    1 ~ 8 monocapas
    Pureza
    >99%
    M.O.Q
    500 g
     
    GR0178 Dispersión acuosa de óxido de grafeno (0,5mg/mL)
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    10 ~ 50 um
    Espesor
    0,7 ~ 1,2 nm
    Pureza
    >99%
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    SC1763 Varilla calefactora de carburo de silicio (SiC) de igual diámetro
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    MU1764 Special Shape Molybdenum Disilicide (MoSi2) Heating Elements
    MU1764 Elementos calefactores de disiliciuro de molibdeno (MoSi2) de forma especial
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