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    • Efecto de los parámetros de crecimiento en las propiedades electrofísicas y de memoria de las películas delgadas de óxido de vanadio

    Título Efecto de los parámetros de crecimiento en las propiedades electrofísicas y de memoria de las películas delgadas de óxido de vanadio
    Autores Roman V. Tominov, Zakhar E. Vakulov, Vadim I. Avilov, Daniil A. Khakhulin, Nikita V. Polupanov, Vladimir A. Smirnov, Oleg A. Ageev
    Revista Moléculas
    Fecha 12/29/2020
    DOI 10.3390/molecules26010118
    Introducción Este estudio investiga el impacto de los parámetros de deposición por láser pulsado en las características morfológicas y electrofísicas de las películas de óxido de vanadio. Variando los pulsos láser y la presión de oxígeno, se produjeron películas con espesores comprendidos entre 22,3 nm y 131,7 nm, y resistividades de 6,32 Ω-cm a 723,74 Ω-cm. La investigación se centró en películas con aplicaciones potenciales en sistemas neuromórficos ReRAM, destacando un importante efecto de conmutación resistiva bipolar. Los hallazgos podrían conducir a avances en microelectrónica y nanoelectrónica, permitiendo el desarrollo de sistemas neuromórficos utilizando películas delgadas de óxido de vanadio.
    Cita Roman V. Tominov, Zakhar E. Vakulov, Vadim I. Avilov et al. The Effect of Growth Parameters on Electrophysical and Memristive Properties of Vanadium Oxide Thin Films. Molecules. 2020. DOI: 10.3390/molecules26010118
    Elemento Vanadio (V) , Oxígeno (O)
    Temas Procesos de deposición
    Industria Electrónica
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